Nei dati relativi ai semiconduttori e ai settori affini, spesso si riscontrano molteplici fonti di variabilità. Ad esempio, variabilità tra lotti, tra wafer e tra siti. Nella creazione di grafici di controllo, un punto corrisponde spesso a un singolo lotto. Tale lotto rappresenta solitamente una media, con i punti multipli misurati a partire da questa media che si riferiscono a più wafer e/o siti. Nei calcoli tradizionali dei limiti di controllo Xbar, la variabilità all'interno del sottogruppo viene utilizzata per calcolare i limiti del grafico Xbar. Tuttavia, la variabilità tra wafer e tra siti può essere completamente indipendente dalla variabilità tra lotti. Pertanto, i limiti di controllo calcolati a partire dalla variabilità tra wafer e tra siti possono risultare assolutamente inaccurati su un grafico di controllo Xbar, dove ogni punto rappresenta un singolo lotto. Ho visto esempi di dati reali che utilizzavano calcoli tradizionali dei limiti Xbar, con quasi tutti i punti contrassegnati come fuori controllo (OOC) a causa dei limiti troppo ristretti.
Sarebbe molto meglio se i limiti del grafico di controllo Xbar in questo esempio fossero basati sulla variabilità tra i lotti.
Per quanto ne so, al momento in JMP17 questo è possibile solo tramite Analizza > Qualità e processo > Grafici di controllo legacy > Pre-riepiloga . Temo che la funzione Pre-riepiloga verrà eliminata ("Legacy") in una futura versione di JMP. O la si mantiene come funzionalità integrata in JMP, oppure si crea una nuova funzionalità con la stessa capacità di calcolare i limiti di controllo a partire dalle variazioni sullo stesso grafico.
