버전 17 에 몇 가지 주요 변경 사항을 가져옵니다. 프로세스 스크리닝 플랫폼.JMP 17에서 프로세스 스크리닝을 사용할 때 메뉴가 변경되었음을 알 수 있습니다. 공정 스크리닝은 더 이상 스크리닝 메뉴에서 찾을 수 없습니다.품질 및 프로세스 메뉴로 이동되었습니다.또한 Process Screening 빨간색 삼각형 메뉴 옵션이 변경되었습니다.
New commands are circled in red. Renamed commands are connected with a line.새 명령은 빨간색 원으로 표시됩니다. 이름이 변경된 명령은 선으로 연결됩니다.
필터 위치 버전 17의 새 명령입니다. 이 명령을 사용하면 지정된 조건을 충족하는 프로세스만 표시되도록 요약 테이블을 필터링할 수 있습니다.예를 들어 다음을 실행합니다.
dt=Open("$SAMPLE_DATA/Semiconductor Capability.jmp");
obj=dt<<RUN script=""></RUN>
기본적으로 118개의 프로세스가 표시됩니다.이것은 분류해야 할 많은 정보입니다.안정성 지수 값이 1.03보다 크거나 같은 프로세스를 살펴보고 싶다고 가정합니다. 이렇게 하려면 빨간색 삼각형 메뉴에서 Filter Where를 선택합니다."컬럼 선택"에서 안정성 지수를 선택합니다.비교 드롭다운에서 >=를 선택합니다.값 필드에 1.03을 입력합니다.확인을 클릭합니다.
이제 요약 테이블에는 안정성 지수가 1.03 이상인 면밀한 관찰이 필요한 8개의 프로세스만 포함됩니다.
선택된 것으로 차트 표시 버전 17의 또 다른 새 명령입니다. 이 새 명령은 요약 보고서 테이블에서 프로세스를 선택하면 더 크고 자세한 제어 차트 보기를 제공합니다.예를 보려면 다음을 실행하십시오.
dt=Open("$SAMPLE_DATA/Semiconductor Capability.jmp");
obj=dt<<RUN script=""></RUN>
버전 16.2의 빠른 그래프와 달리 이 그래프는 더 큽니다.점이 그래프에 표시되고 테스트 1 위반(기본값)이 그래프에 표시됩니다.컨트롤 차트 유형은 Y축 레이블에도 표시됩니다.요약 보고서 테이블에서 다른 프로세스를 선택하면 선택한 프로세스에 대한 그래프가 표시되도록 선택한 차트가 업데이트됩니다.다른 프로세스를 선택하여 어떤 일이 발생하는지 확인하십시오.
선택한 항목에 대한 차트 표시 이전 버전의 JMP에서 발견된 선택한 항목에 대한 빠른 그래프의 새 이름입니다.이러한 그래프는 선택한 차트보다 작습니다.기본적으로 포인트를 표시하거나 위반을 테스트하거나 컨트롤 차트 유형을 제공하지 않습니다.
차트 설정 버전 17의 새 명령입니다. 이 옵션을 사용하면 선택한 차트, 선택한 차트, 그래프렛 차트 및 드리프트 차트 명령에 대해 표시되는 내용을 제어할 수 있습니다.위의 각 명령에 대해 빨간색 삼각형 메뉴에서 옵션을 선택하지 않고 차트 설정 명령을 사용하여 단일 대화 상자를 사용하여 이러한 명령에 대한 옵션을 선택할 수 있습니다.
드리프트 차트를 제외한 모든 명령에 분산 차트, 영역 및 알람 서클을 추가/제거할 수 있습니다.마커, 연결선, 제어 한계, 중심선, 세로축 레이블 및 사양 한계를 켜거나 끌 수 있습니다.프레임 크기와 전체 플롯 수를 변경할 수도 있습니다(그래프렛 차트에서는 사용할 수 없음).
선택한 항목에 대해 실행 컨트롤 차트 작성기 및 프로세스 기능의 두 가지 옵션이 있습니다.선택한 항목에 대한 관리 차트 및 선택한 항목에 대한 처리 기능(이전 버전의 JMP에 있음)이 이 새로운 단일 메뉴 옵션인 선택 사항에 대해 실행으로 결합되었습니다.
색상 선택 항목 그리고 선택한 항목 제거 메뉴에서 해당 섹션으로 이동되었습니다.
플랫폼 기본 설정 모든 JMP 플랫폼에서 볼 수 있는 새로운 옵션입니다.여기에는 Go to … 및 Save Changes to …의 두 가지 선택 사항이 포함되어 있습니다.Go to … 명령은 Process Screening 플랫폼 기본 설정 대화 상자로 이동합니다.Save Changes to … 명령은 출력에 대한 기본이 아닌 변경 사항을 표시하고 이러한 변경 사항을 기본 설정에 저장할지 묻는 대화 상자를 엽니다.보고서를 원하는 대로 정확하게 표시하는 데 시간을 할애한 후 기본 설정에 대한 변경 사항을 저장하면 향후 같은 종류의 모든 보고서에 대해 동일한 옵션이 제공됩니다.
또한 버전 17의 새로운 기능은 프로세스 스크리닝 열 속성.위에서 언급한 Semiconductor Capability 테이블을 사용하여 NPN1을 선택하고 Cols->Column Info를 선택합니다.열 속성 드롭다운에서 프로세스 스크리닝을 선택합니다.중심선, 지정된 시그마 및 측정 시그마를 입력하는 옵션이 있습니다.중심선은 프로세스 제어 차트의 중심입니다(일반적으로 과거 평균).지정된 시그마는 제어 한계를 계산하는 데 사용되는 표준 편차 내의 프로세스입니다(일반적으로 과거 프로세스 표준 편차).측정 시그마는 측정 시스템의 변형입니다.중심선의 경우 115를 사용합니다.지정된 시그마의 경우 2.5를 사용하십시오.측정 시그마의 경우 2.4를 사용합니다.
확인을 클릭한 후 다음을 실행합니다(Semiconductor Capability 데이터 테이블이 이미 열려 있어야 함).
dt=data table("Semiconductor Capability.jmp");
obj=dt<< Process Screening(
Process Variables( :NPN1 ),
Control Chart Type( "Indiv and MR" )
);
보고서에서 2.5는 지정된 시그마로 사용되고 2.4는 측정 시그마로 사용되고 115는 중심선으로 사용됩니다.MS 부분도 보고서에 추가됩니다.이 값은 100 * 측정 시그마^2 / 시그마^2 이내 = 100 * 2.4^2 / 2.635^2 = 83으로 계산됩니다.
버전 17의 프로세스 스크리닝에 대한 메뉴 변경으로 조직이 개선되고 사용자가 옵션을 더 빨리 찾을 수 있습니다.Filter Where, Show Charts as Selected, Chart Options, Process Screening 열 속성 및 Platform Preferences와 같은 새로운 명령은 주요 개선 사항을 제공하고 Process Screening 플랫폼의 유용성을 개선합니다.
