版本 17帶來了一些關鍵的變化過程篩選平台。在 JMP 17 中使用過程篩選時，您會注意到菜單發生了變化。 在“篩選”菜單下不再找到“過程篩選”。它已移至質量和流程菜單。此外，“過程篩選”紅色小三角菜單選項已更改。
New commands are circled in red. Renamed commands are connected with a line.新命令以紅色圈出。 重命名的命令用一條線連接。
過濾位置是版本 17 的新命令。此命令允許您過濾摘要表，以便僅顯示滿足指定條件的進程。例如，運行以下命令：
dt=Open("$SAMPLE_DATA/Semiconductor Capability.jmp");
obj=dt<<RUN script=""></RUN>
默認情況下，顯示 118 個進程。這是很多需要整理的信息。假設您要查看穩定性指數值大於或等於 1.03 的過程。為此，從紅色小三角菜單中選擇過濾位置。從“選擇列”中選擇穩定性指數。從比較下拉列表中選擇 >=。在值字段中輸入 1.03。單擊確定。
現在匯總表僅包含穩定性指數大於或等於 1.03 的需要仔細查看的 8 個過程。
顯示選定的圖表是版本 17 的另一個新命令。這個新命令提供更大、更詳細的流程控製圖視圖，因為它們在摘要報告表中被選中。運行以下命令以查看示例：
dt=Open("$SAMPLE_DATA/Semiconductor Capability.jmp");
obj=dt<<RUN script=""></RUN>
與版本 16.2 中的快速圖表不同，此圖表更大。點顯示在圖表上，測試 1 違規（默認情況下）顯示在圖表上。Y 軸標籤中還註明了控製圖類型。當您在摘要報告表中選擇不同的流程時，選定的圖表將更新以顯示所選流程的圖表。嘗試選擇不同的進程，看看會發生什麼。
顯示所選圖表是在先前版本的 JMP 中找到的選定項快速圖的新名稱。這些圖表小於選定的圖表。默認情況下，它們不顯示點、測試違規或給出控製圖類型。
圖表設置是版本 17 的新命令。此選項允許您控制為選定圖表、選定圖表、Graphlet 圖表和漂移圖表命令顯示的內容。不必從紅色小三角菜單中為上述每個命令選擇選項，您可以使用“圖表設置”命令通過單個對話框為這些命令選擇選項。
您可以向所有命令添加/刪除離散圖、區域和警報圈，但漂移圖除外。您可以打開/關閉標記、連接線、控制限制、中心線、垂直軸標籤和規格限制。您還可以更改框架大小和交叉圖的數量（不適用於 Graphlet 圖表）。
為選定的啟動包含兩個選項：控製圖生成器和過程能力。選定項目的控製圖和選定項目的過程能力（在以前版本的 JMP 中找到）合併到這個新的單一菜單選項中：啟動選定項目。
顏色選擇的項目和刪除所選項目已移至菜單中它們自己的部分。
平台偏好是所有 JMP 平台中的一個新選項。它包含兩個選項：Go to … 和 Save Changes to …。Go to … 命令將帶您進入 Process Screening 平台首選項對話框。Save Changes to … 命令將打開一個對話框，顯示對輸出所做的非默認更改，並詢問您是否要將這些更改保存到首選項。一旦您花時間使報告看起來完全符合您的要求，保存對首選項的更改將為您提供相同類型的所有未來報告的相同選項。
版本 17 中的另一個新功能是過程篩選列屬性。使用上面提到的 Semiconductor Capability 表，選擇 NPN1 並選擇 Cols->Column Info。在“列屬性”下拉列表中，選擇“過程篩選”。有用於輸入中心線、指定西格瑪和測量西格瑪的選項。中心線是過程控製圖的中心（通常是歷史平均值）。指定西格瑪是標準偏差內的過程，用於計算控制限（通常是歷史過程標準偏差）。測量西格瑪是測量系統的變化。對於中心線，使用 115。對於指定西格瑪，使用 2.5。對於測量西格瑪使用 2.4。
單擊確定後，運行以下命令（要求已打開半導體能力數據表）：
dt=data table("Semiconductor Capability.jmp");
obj=dt<< Process Screening(
Process Variables( :NPN1 ),
Control Chart Type( "Indiv and MR" )
);
請注意，在報告中，2.5 用作指定西格瑪，2.4 用作測量西格瑪，115 用作中心線。MS 部分也添加到報告中。該值計算為 100 * 測量 Sigma^2 / Within Sigma^2 = 100 * 2.4^2 / 2.635^2 = 83。
版本 17 中流程篩選的菜單更改導致更好的組織，並允許用戶更快地找到選項。Filter Where、Show Charts as Selected、Chart Options、Process Screening 列屬性和 Platform Preferences 等新命令提供了重要的增強功能並提高了 Process Screening 平台的可用性。
