版本 17带来了一些关键的变化过程筛选平台。在 JMP 17 中使用过程筛选时，您会注意到菜单发生了变化。 在“筛选”菜单下不再找到“过程筛选”。它已移至质量和流程菜单。此外，“过程筛选”红色小三角菜单选项已更改。
New commands are circled in red. Renamed commands are connected with a line.新命令以红色圈出。 重命名的命令用一条线连接。
过滤位置是版本 17 的新命令。此命令允许您过滤摘要表，以便仅显示满足指定条件的进程。例如，运行以下命令：
dt=Open("$SAMPLE_DATA/Semiconductor Capability.jmp");
obj=dt<<RUN script=""></RUN>
默认情况下，显示 118 个进程。这是很多需要整理的信息。假设您要查看稳定性指数值大于或等于 1.03 的过程。为此，从红色小三角菜单中选择过滤位置。从“选择列”中选择稳定性指数。从比较下拉列表中选择 >=。在值字段中输入 1.03。单击确定。
现在汇总表仅包含稳定性指数大于或等于 1.03 的需要仔细查看的 8 个过程。
显示选定的图表是版本 17 的另一个新命令。这个新命令提供更大、更详细的流程控制图视图，因为它们在摘要报告表中被选中。运行以下命令以查看示例：
dt=Open("$SAMPLE_DATA/Semiconductor Capability.jmp");
obj=dt<<RUN script=""></RUN>
与版本 16.2 中的快速图表不同，此图表更大。点显示在图表上，测试 1 违规（默认情况下）显示在图表上。Y 轴标签中还注明了控制图类型。当您在摘要报告表中选择不同的流程时，选定的图表将更新以显示所选流程的图表。尝试选择不同的进程，看看会发生什么。
显示所选图表是在先前版本的 JMP 中找到的选定项快速图的新名称。这些图表小于选定的图表。默认情况下，它们不显示点、测试违规或给出控制图类型。
图表设置是版本 17 的新命令。此选项允许您控制为选定图表、选定图表、Graphlet 图表和漂移图表命令显示的内容。不必从红色小三角菜单中为上述每个命令选择选项，您可以使用“图表设置”命令通过单个对话框为这些命令选择选项。
您可以向所有命令添加/删除离散图、区域和警报圈，但漂移图除外。您可以打开/关闭标记、连接线、控制限制、中心线、垂直轴标签和规格限制。您还可以更改框架大小和交叉图的数量（不适用于 Graphlet 图表）。
为选定的启动包含两个选项：控制图生成器和过程能力。选定项目的控制图和选定项目的过程能力（在以前版本的 JMP 中找到）合并到这个新的单一菜单选项中：启动选定项目。
颜色选择的项目和删除所选项目已移至菜单中它们自己的部分。
平台偏好是所有 JMP 平台中的一个新选项。它包含两个选项：Go to … 和 Save Changes to …。Go to … 命令将带您进入 Process Screening 平台首选项对话框。Save Changes to … 命令将打开一个对话框，显示对输出所做的非默认更改，并询问您是否要将这些更改保存到首选项。一旦您花时间使报告看起来完全符合您的要求，保存对首选项的更改将为您提供相同类型的所有未来报告的相同选项。
版本 17 中的另一个新功能是过程筛选列属性。使用上面提到的 Semiconductor Capability 表，选择 NPN1 并选择 Cols->Column Info。在“列属性”下拉列表中，选择“过程筛选”。有用于输入中心线、指定西格玛和测量西格玛的选项。中心线是过程控制图的中心（通常是历史平均值）。指定西格玛是标准偏差内的过程，用于计算控制限（通常是历史过程标准偏差）。测量西格玛是测量系统的变化。对于中心线，使用 115。对于指定西格玛，使用 2.5。对于测量西格玛使用 2.4。
单击确定后，运行以下命令（要求已打开半导体能力数据表）：
dt=data table("Semiconductor Capability.jmp");
obj=dt<< Process Screening(
Process Variables( :NPN1 ),
Control Chart Type( "Indiv and MR" )
);
请注意，在报告中，2.5 用作指定西格玛，2.4 用作测量西格玛，115 用作中心线。MS 部分也添加到报告中。该值计算为 100 * 测量 Sigma^2 / Within Sigma^2 = 100 * 2.4^2 / 2.635^2 = 83。
版本 17 中流程筛选的菜单更改导致更好的组织，并允许用户更快地找到选项。Filter Where、Show Charts as Selected、Chart Options、Process Screening 列属性和 Platform Preferences 等新命令提供了重要的增强功能并提高了 Process Screening 平台的可用性。
