使用 JMP® 17 刻畫器 (2023-EU-30MP-1305) 的 CQA 的不允許組合和操作區域優化Laura Lancaster，SAS 首席研究統計學家開發人員
JMP® 中的預測刻畫器是一款功能強大的工具，可用於可視化和優化來自設計實驗的模型。 本演示文稿將重點介紹預測刻畫器中的新功能，用於探索和優化具有已知約束的模型，並確定確保質量的因素範圍，這些範圍由與關鍵質量屬性 (CQA) 相關的規範定義，從而解決基本的質量設計 (QbD) ） 問題。 雖然以前版本的 JMP 能夠創建遵守不允許的組合約束和事先已知在物理上不可能或不需要的因素組合的設計，但最後一步刻畫器中的模型探索和優化無法遵守這些約束。 我們將演示自 JMP® 16 以來的刻畫器如何在探索模型和執行優化時自動處理這些複雜的設計約束。 我們還將演示 JMP® 17 中新增的設計空間刻畫器如何找到設計空間的子區域，從而最大限度地保持產品質量符合 CQA 規範的可能性，同時保持最大的靈活性。 這兩個功能使預測刻畫器對於高質量產品和流程創新不可或缺。
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