使用 JMP® 17 刻画器 (2023-EU-30MP-1305) 的 CQA 的不允许组合和操作区域优化Laura Lancaster，SAS 首席研究统计学家开发人员
JMP® 中的预测刻画器是一款功能强大的工具，可用于可视化和优化来自设计实验的模型。 本演示文稿将重点介绍预测刻画器中的新功能，用于探索和优化具有已知约束的模型，并确定确保质量的因素范围，这些范围由与关键质量属性 (CQA) 相关的规范定义，从而解决基本的质量设计 (QbD) ） 问题。 虽然以前版本的 JMP 能够创建遵守不允许的组合约束和事先已知在物理上不可能或不需要的因素组合的设计，但最后一步刻画器中的模型探索和优化无法遵守这些约束。 我们将演示自 JMP® 16 以来的刻画器如何在探索模型和执行优化时自动处理这些复杂的设计约束。 我们还将演示 JMP® 17 中新增的设计空间刻画器如何找到设计空间的子区域，从而最大限度地保持产品质量符合 CQA 规范的可能性，同时保持最大的灵活性。 这两个功能使预测刻画器对于高质量产品和流程创新不可或缺。
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