JMP® 17 における MSA プラットフォーム ツールのアプリケーション (2023-EU-PO-1345)Vasco Cachaco 氏、ビジネス改善および分析エンジニア、Xaar plc
測定システム分析は、測定システムに影響を与える可能性のある変動の原因を特定および管理するための体系的なアプローチです。 最上位レベルでは、このタイプの分析により、プロセスまたはシステムの総観測変動 (TV) に存在する測定システム変動 (MV) の定量化が可能になります。 プロセス (部品間) 変動 (PV) から分離されます。 測定の変動は、精度と精度にさらに分類できます。 精度コンポーネントについては、連続データのシーケンシャル メソッドに従って、測定システムの妥当性を判断します。 タイプ 1 ゲージ調査では、測定デバイスの精度と一貫性が調査され、フル ゲージ R&R 調査では、測定システム全体の再現性と再現性が調査されます。 このポスターでは、JMP 17 でのこれらのツールの実用的なアプリケーションについて説明します。
データの視覚化品質と信頼性
