CpK 값을 조정하여 새로운 사양 한계 찾기안녕,
JMP에 사양 제한을 다양한 값(예: 내 데이터세트의 100개 매개변수)으로 조정할 수 있는 기능이 내장되어 있고 내 데이터세트에서 CpK 값이 어떻게 변경되는지 궁금했습니다.
현재 jmp에서 사용할 수 없다면 가장 좋은 방법은 무엇입니까?
감사해요,
안찰
품질 및 프로세스 엔지니어링Re: CpK 값을 조정하여 새로운 사양 제한을 찾으십시오.아직 JMP 17이 있습니까? 그렇다면 새로운 Design Space Profiler가 이에 매우 도움이 될 수 있지만 방향이 약간 다릅니다. 기능/크기 길이를 포함하는 모델이 있다고 가정하면 필요한 프로세스 출력을 달성하기 위해 입력에 필요한 사양 제한을 시각화할 수 있습니다. 프로파일러는 특히 내장된 Monte Carlo 시뮬레이터(예: 빨간색 삼각형...Send Limits to Simulator)와 함께 사용할 때 입력의 프로세스 기능이 출력에 미치는 영향을 탐색하는 데 유용합니다.
여기 간략한 비디오 개요 디자인 공간 프로파일러의
Re: CpK 값을 조정하여 새로운 사양 제한을 찾으십시오. monu_maverick , 나는 당신이 말하는 정확한 일을합니다.이것을 시도하고 분포 플랫폼으로 이동하여 분포를 맞춘 다음 분포 빨간색 화살표 옵션에서 기능 분석을 선택하십시오.거기에서 사양 제한 적합을 확률에서 K 시그마로 변경합니다.3은 1의 ppk와 같고 4는 1.33과 같습니다.그런 다음 해당 K 시그마 수준에 대한 사양 제한 및 기능 분석을 출력합니다.이것이 효과가 있는 경우 알려 주시면 여러 열에 대해 이 작업을 수행할 수 있는 스크립트를 게시하겠습니다.
Semiconductor 샘플 데이터 세트를 사용하는 흐름은 다음과 같습니다.
확인을 누르기 전에 "사양 제한 계산" 버튼을 눌러야 합니다(열 속성에서 로드된 사양 제한을 제거했음).
제안된 사양 제한은 다음과 같습니다.
"최적 적합" 분포 옵션을 사용할 때 좋은 점은 이 방법이 정규 또는 비정규 분포에 적용된다는 것입니다!
도움이 되었기를 바랍니다
스티브
Re: CpK 값을 조정하여 새로운 사양 제한을 찾으십시오.Interactive Capability 플롯을 사용해 보셨습니까? 분포 공정 능력 출력에서 변수 이름과 능력이 있는 빨간색 삼각형을 보고 마지막 옵션은 Interactive Capability Plot입니다. 이렇게 하면 센터링과 가변성, 사양 한계를 조정할 수 있으며 능력 지수와 ppm 값이 계산됩니다.
Re: CpK 값을 조정하여 새로운 사양 제한을 찾으십시오.답변해주시고 설명해주셔서 감사합니다. 제 질문에 대한 설명을 잘 못 드린 것 같습니다. 다음을 참조하십시오
내 부품의 다양한 기능(또는 크기 길이)을 측정하고 있으며 이러한 각 기능에는 약간의 허용 한계(상한 및 하한)가 있습니다. JMP16의 "Process Screening" 옵션에서 이러한 부품을 여러 개 생산한 공정의 공정 능력을 분석했을 때 각 기능에는 고유한 CpK 값이 있었습니다. 저는 JMP가 반대 방향으로 가는 데 도움을 줄 수 있는지 궁금했습니다. 즉, 각 부품 기능에 대해 특정 CpK 값(예: 1.33)에 도달해야 한다고 JMP에 알릴 수 있고 결과적으로 JMP가 무엇을 해야 하는지 알려줄 수 있는지 궁금했습니다. 각 부품 기능에 대한 새로운 공차 한계는 무엇입니까?
이 연습의 기본 아이디어는 과거에 설정된 허용 한도를 수정하라는 요청으로 고객에게 돌아가는 것입니다.
이것이 내 원래 질문을 더 잘 설명하기를 바랍니다.
JMP 커뮤니티에서 받은 모든 도움에 감사드립니다.
감사해요,
안찰
Re: CpK 값을 조정하여 새로운 사양 제한을 찾으십시오.당신의 생각은 반대 방향으로 가고 있습니다. 그것은 나에게 보인다. 먼저 고객 요구 사항 및 결과가 허용되지 않는 부분에 대한 결정을 기반으로 사양을 설정합니다. 고객이나 애플리케이션에 따라 사양이 다를 수 있습니다. 그런 다음 공정이 관리되고 있음을 확인하고 마지막으로 공정 능력을 추정합니다. 공정 모델을 기반으로 공정 요인 설정을 조정하여 공정 능력 지수가 허용되지 않는 경우 원하는 평균 및 장기 분산을 달성합니다.
