레벨: 초급
【발표자】
SAS Institute Japan 주식회사 JMP 재팬 사업부
테크니컬 그룹 시스템 엔지니어 카츠무라 유이치
【발표 개요】
제조업에서는 공정 관리 등 다양한 장면에서 측정이 이루어집니다. 예를 들어, 측정이 정확하게 이루어지지 않으면 측정값의 편차가 측정 시스템에 기인하는 것인지, 공정에 기인하고 있는 것인지, 이해하기 어려워져 버립니다. 그렇다면 어떤 방법으로 측정 시스템의 측정 정확도를 조사해야합니까? 이러한 경우에 유용한 것은 측정 시스템 분석(MSA: Measurement System Analysis)입니다. 측정 시스템 분석에는 편향, 안정성, 선형성의 평가 등이 있습니다만, 본 발표에서는 측정 시스템의 편차를 분석하는 Gauge R&R 분석이나 EMP 분석에 대해 주로 소개합니다. JMP를 사용하면 측정 시스템 분석 실험 계획에서 분석 결과 출력까지 수행할 수 있습니다. 또한 JMP 17에서 추가된 측정 시스템 분석 관련 몇 가지 새로운 기능, 변경점 등에 대해서도 소개할 예정입니다.
【발표자 프로필】2010년에 SAS Institute Japan 주식회사에 입사. 현재는 주로 화학 업계 고객을 담당하고 있으며 JMP 세미나 및 JMP 데모 등 JMP 제품의 프리 세일즈 업무를 담당하고 있습니다.
