光谱预处理 - 多项式基线校正是什么激发了这个愿望清单请求?
“我们简要讨论了可能有用的其他预处理技术。我推荐的一种方法是称为去趋势的多项式基线校正。Barnes 等人发表了一篇论文。概述了这项技术。它不是一种常见的技术,但仍然非常有用,因为它可以消除类似于倾斜基线校正的非线性趋势。主要用途是缓解密集粉末的 NIRS 数据中普遍存在的曲率。请参阅下面概述该技术的原始论文。”
https://journals.sagepub.com/doi/abs/10.1366/0003702894202201?journalCode=aspc
请描述您希望看到的新的或改进的功能或解决方案。该描述可以在原始论文中找到,但这将是一种很好的技术,用于对制药中常见的包装粉末进行反卷积。
如果提供此新功能,对您和/或其他用户有何价值?
这是外部客户的请求吗?
亚当·沃勒尔,阿尔克梅斯
阿尔克梅斯公司
265奥林格圆
威尔明顿, 俄亥俄州 45177
中号+1 937 218 4342
时间+1 937 655 4347
Adam.Worrall@Alkermes.com
www.alkermes.com
是否有具有我们应该注意的此功能或解决方案的竞争软件包?据我所知,情况并非如此。
这是否会影响客户的续订、扩展或采用?如果我们不解决这个问题,是否会导致帐户面临风险?
高级统计建模回复:光谱预处理 - 多项式基线校正 - 状态更改为:已交付@比尔_沃利我刚刚发现这个功能是在17.0版本中的。

回复:光谱预处理 - 多项式基线校正 - 状态更改为:正在调查Eigenvector 的 PLS Toolbox 和 Solo 产品具有以下功能: https://wiki.eigenvector.com/index.php?title=基线。会调查这个。谢谢@比尔_沃利分享此客户意见。
回复:光谱预处理 - 多项式基线校正 - 状态更改为:已确认@比尔_沃利- 谢谢你的建议! 我们已收到您的请求并将予以考虑。