(18ago2019) - Una nota del autor
¡Hola todos! Es hora de empezar a pensar en una nueva versión del STK... Tengo algunas cosas que me gustaría hacer, pero también quiero saber de quienes usan la herramienta. Si hay algo que no ve o cree que podría mejorarse, envíeme un mensaje privado. Planeo mirar a través de la sección de comentarios como un control de cordura, pero puedo perder algo. Entonces, si es importante, envíame un mensaje privado.
EL CONJUNTO DE HERRAMIENTAS DE SEMICONDUCTORES (VERSIÓN 2)
Semiconductor Toolkit es un intento de responder a la necesidad de la industria de semiconductores de visualizaciones especializadas y reformulación de las capacidades JMP existentes.En su lanzamiento inicial, el kit de herramientas contenía herramientas para generar mapas de obleas con patrones y sin patrones, anotar gráficos existentes con geometría de obleas y una interfaz específica de semiconductores para la opción Agrupación jerárquica con medidas espaciales. Ahora se ha ampliado para incluir métodos analíticos para explorar datos de defectos de troquel, hacer comparaciones entre obleas y una colección de herramientas y utilidades aportadas por la comunidad de usuarios. El conjunto de herramientas pretende ser un esfuerzo colaborativo y vivo de las partes interesadas.Las críticas constructivas, los informes de errores y las sugerencias de capacidades son bienvenidos y alentados.
REQUISITOS DEL SISTEMA
El complemento es para la versión 12 y posteriores de JMP y JMP Pro.El complemento verificará a qué versión de JMP se está agregando y mostrará solo los métodos disponibles en esa instalación.
ACTUALIZACIONES
- (2016-08-22) Lanzamiento de la versión 1.
- (2016-11-03) Errores corregidos encontrados por @ragnarl .
- (2016-10-14) Se agregó una nota sobre el próximo lanzamiento para corresponder con el lanzamiento del nuevo sitio de la comunidad
- (2016-09-26) Se agregaron capturas de pantalla y descripciones para cada herramienta.
- (2017-11-01) Lanzamiento de la versión 2. BUENO, ESO TOMO MAS TIEMPO DE LO ESPERADO...Representa una revisión completa del complemento. Se agregaron varias herramientas nuevas, incluidas herramientas para manejar mapas de obleas para obleas con patrones y métodos para comparar mapas de obleas con patrones de muestreo diferentes. Debajo del capó, la aplicación se reescribió por completo en JMP Application Builder. También estandaricé muchos de los métodos en el complemento original para garantizar un rendimiento constante en todas las plataformas. También se incluye un manual de ayuda adecuado que se ampliará a medida que el tiempo lo permita.
- (2018-02-15) Se corrigieron un par de errores en la versión inicial.
- (2018-02-23) Corrección de errores.
- (2019-09-24) Se corrigieron un par de errores (uno relacionado con el uso de JMP con idiomas distintos del inglés y un problema en preparación para el lanzamiento de JMP 15).
- (2020-01-12) Se corrigió el error "yval" en la función de mapa con patrón rápido.
LAS HERRAMIENTAS
Herramienta de anotación agrega marcadores para la oblea y los bordes de exclusión a un gráfico o serie de gráficos existente en la misma ventana.Si se conoce la geometría del troquel, también se pueden agregar marcadores para el diseño del troquel.
Conjunto de herramientas de mapeo > Mapa de oblea estampado utiliza índices de matriz y una variable de respuesta para generar un mapa de obleas con patrones. La plataforma también proporciona capacidades estadísticas resumidas para el mapa de obleas.
Conjunto de herramientas de mapeo > Mapa de obleas desnudas utiliza información de coordenadas y una variable de respuesta para crear un mapa de oblea simple.La herramienta proporciona información sobre la calidad del ajuste del algoritmo de suavizado utilizado.Actualmente, la herramienta admite modelos de redes neuronales: un tipo en JMP y dos tipos en JMP Pro.
Conjunto de herramientas de representación cartográfica > Usar geometría crea archivos de forma para que JMP los use en la plataforma Graph Builder.Debido a las diferencias en la política de TI, los archivos se generan en el escritorio del usuario y se deja que el usuario mueva estos archivos a la ubicación correcta en el sistema de archivos.Estas ubicaciones se pueden encontrar en la página 308 del libro JMP 13 "Essential Graphing". Este libro está incluido en la instalación de JMP y se puede encontrar en Ayuda > Libros > Gráficos esenciales en JMP.
Conjunto de herramientas de mapeo > Usar mapa paso a paso crea archivos de formas para que JMP los use en la plataforma Graph Builder como con el generador de mapas de obleas.Esta herramienta utiliza una tabla de coordenadas para generar el mapa. Al igual que con la herramienta de geometría, consulte la documentación de JMP para saber cómo usar los archivos generados con Graph Builder
Conjunto de herramientas de mapeo > Usar índice de troquel utiliza una tabla de índices de dados para generar archivos de formas de mapas de obleas aproximados. Al igual que con la herramienta de geometría, consulte la documentación de JMP para saber cómo usar los archivos generados con Graph Builder.
Conjunto de herramientas de análisis > Defectos de clúster es un front-end para Hierarchical Clustering Platform con la opción de medidas espaciales utilizada.Este front-end reformula los términos generales utilizados en la plataforma de agrupamiento jerárquico en términos más familiares para la industria de los semiconductores.
Conjunto de herramientas de análisis > Explorar datos con patrones genera un informe que admite la exploración de agrupamiento y datos de prueba. Proporciona las mismas estadísticas resumidas que la herramienta Patterned Wafer Map con capacidades adicionales de desglose.
Conjunto de herramientas de análisis > Comparar mapas de obleas compara dos mapas de obleas con patrones de muestreo diferentes, es decir, diferentes productos en la misma herramienta o proceso.
Caja de herramientas de Utilidades > Adjuntar límites de tabla es un puerto de la herramienta por @txnelson . Se puede encontrar documentación detallada para su uso. aquí .
