Ting Cheng, Verfahrenstechniker, Angewandte Materialien
Cui Yue, Verfahrenstechniker, Angewandte Materialien
In einem AMAT-Six-Sigma-Black-Belt-Projekt zum PVD-Sputterprozess bestanden die Projektziele darin, mehrere Filmeigenschaften zu optimieren. Eine Pugh-Matrix wurde verwendet, um das praktikabelste Hardwaredesign auszuwählen.Die PVD-Sputterprozessparameter wurden basierend auf der Physik des PVD-Sputterprozesses gewählt (Xs).
Um die Designstruktur zu verbessern, wurden definitives Screening-Design und Augment-Design verwendet, um Verwechslungen bei Resolution II und III zu vermeiden. RSM-Modell und Least-Square-Fit wurden verwendet, um die prädiktive Modellierung dieser Filmeigenschaften zu konstruieren. Zusätzlich zu den Haupteffekten erwiesen sich mehrere Wechselwirkungseffekte im reduzierten RSM-Modell als signifikant.Jeder Wechselwirkungseffekt deckte potenzielle Erkenntnisse aus zwei konkurrierenden PVD-Sputter-Physikmodellen auf.
Um den Mehrstrom-Sputterprozess weiter zu optimieren, wurde ein gruppenorthogonales übersättigtes Design-DOE verwendet, um jeden Sputterprozessblock zu optimieren. Folieneigenschaften (Ys) konkurrieren miteinander bei der Suche nach dem optimalen Design.Drei JMP-Techniken wurden verwendet, um das optimale robuste Design zu finden:
- Richten Sie eine simulationsbasierte DSD ein, um die Erwünschtheitsfunktionen zu optimieren.
- Führen Sie Profiler Robust Optimization durch, um das optimale Design zu finden.
- Führen Sie eine Monte-Carlo-Simulation durch, um den Prozentsatz fehlerhafter Fehler abzuschätzen.
Durch die Verwendung dieser JMP 16-Modellierungsplattformen und -techniken war dieses Black-Belt-Projekt sehr erfolgreich, nicht nur in der Improvisation ich ng der Filmeigenschaften, sondern auch um das Verständnis der physikalischen Wechselwirkungen im Prozess zu fördern. Dieser facettenreiche JMP-DOE-, modellierungs- und simulationsbasierte Ansatz wurde zum Maßstab für mehrere neue JMP-Projekte, die einen ähnlichen Ansatz verfolgten.
