多模态分布分析<meta http-equiv="Content-Type" content="text/html; charset=UTF-8" />多模态分布分析
使用 JMP 脚本功能发现隐藏在密度分布中的变异源
抽象的
在半导体 Fab 中，在不同的硅晶片上收集了几个电气测量值。与它们相关的分布通常是正常的，尽管情况并非总是如此。 很多时候，由于工艺偏移、工具偏差或偏移，这些分布显示出多种模式。 目标是自动识别潜在的多种模式，使噪声最小化
作者
安东尼奥 D. 德安杰洛、菲利斯·鲁索
公司
Lfoundry srl
JSL 应用程序开发
