當某些步驟的長度不同時如何繪製跟踪覆蓋？尋求有關如何正確繪製此圖的建議或幫助。 我正在嘗試做一些傳感器跟踪覆蓋，但問題是某些步驟具有動態終點，這意味著時間長度可能會改變。 如果我嘗試在配方開始時從 time=0 開始覆蓋跡線，則每個晶片跡線都會略微偏移。 好的，所以我可以在每一步開始時得到一個 time=0 的列，在每一步重置為零。
我怎樣才能得到這個來繪製，以便跟踪的塊在每一步開始時都排成一行？ 我似乎無法在圖形生成器中使用任何東西。 我目前將數據作為 TALL 表
示例：它目前的外觀......略有偏移
理想狀態，按部就班#
圖形回复：當某些步驟的長度不同時，如何繪製跟踪覆蓋？Col Max()、Col Min() 和 Col Cumulative Sum()（或其他一些 Col 統計函數）與正確的變量應該讓你非常接近你正在尋找的東西。
回复：當某些步驟的長度不同時，如何繪製跟踪覆蓋？你有 JMP Pro 嗎？ 如果是這樣，您可以嘗試使用功能數據瀏覽器。 我提供了很多工具來處理數據中的異常。 例如，動態時間扭曲將為您對齊所有曲線。
回复：當某些步驟的長度不同時，如何繪製跟踪覆蓋？我不確定我是否理解你的意思。
