如何在 4PL 拟合中约束渐近线一点背景资料：
这里是 JMP 的新用户，正在运行 JMP16，并且知道如何使用 JMP 执行基本的 4PL 拟合和分析。
这是问题：
在用 4PL 分析拟合不完整的 IC50 曲线时，我们经常需要设置上渐近线或下渐近线的值。
有没有办法用 JMP 做到这一点？
谢谢分析回复：如何在 4PL 拟合中约束渐近线您将需要使用自定义模型。它将与非线性平台的模型库中的模型或拟合曲线中的 4PLC 模型之一相同，但您将只使用其中的 3 个而不是 4 个参数。 第 4 个是渐近线，并在公式中将其设置为您要使用的常数。
请参阅 JMP 帮助以了解如何使用模型库. 将 4PLC 模型创建为列库，然后编辑公式并将两个渐近线参数之一更改为所需的常数。
