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Fehlende Eignung für ein benutzerdefiniertes DoE-Design mit schwer zu ändernden Faktoren

Wenn ich Minitab verwende, um ein DoE-Modell mit zwei schwer zu ändernden Faktoren zu erstellen, kann ich eine fehlende Anpassungsbewertung sehen, solange ich sowohl den gesamten Plot als auch den Subplot reproduziere (Minitab bietet mir die Möglichkeit, den gesamten Plot und den Subplot während des Entwurfs von . zu replizieren das Model)

 

Wenn ich jedoch die JMP Custom DoE-Plattform für denselben Satz von Faktoren mit zwei HTC-Faktoren verwende, kann ich die fehlende Anpassungsanalyse nicht sehen, egal was ich tue. Ich gehe davon aus, dass der gesamte Plot und der Subplot in meinem Modell nicht repliziert wurden, aber ich kann keine Möglichkeit finden, sowohl den gesamten Plot als auch den Subplot zu replizieren.

DAMHIRSCHKUHBetreff: Fehlende Passform für ein benutzerdefiniertes DoE-Design mit schwer zu ändernden Faktoren

Hi.

Dazu habe ich eine kleine Recherche gemacht. Ich weiß nicht, ob ich eine Antwort für dich habe, aber Folgendes habe ich herausgefunden:

1. Soweit ich sehen kann, können Sie mit Custom Design keine Replikate (dh Mittelpunkte) angeben, wenn Sie schwer zu ändernde Faktoren haben. Das macht für mich Sinn. Ich denke, die Idee, Läufe zu replizieren, wenn Sie schwer zu ändernde Faktoren haben und daher ganze Plots als zufällige Effekte modelliert sind, scheint eine schlechte Idee zu sein.
2. Auch wenn Sie Ihrem Entwurf manuell Replikationsläufe hinzufügen, wird beim Modellieren mit der empfohlenen REML-Methode kein Bericht über fehlende Anpassung angezeigt. Wenn Sie zu EMS wechseln (nicht empfohlen), sehen Sie die mangelnde Passform. Dies kann technische Gründe haben. Aber auch das scheint wieder Sinn zu machen. Was bedeutet mangelnde Passform bei zufälligen Effekten?

Zusammenfassend lässt sich sagen, dass Sie Tests auf fehlende Anpassung für Split-Plot-Designs durchführen können, wenn Sie die Replikate manuell erstellen und die EMS-Anpassungsmethode verwenden. Aber ich würde mir vorher gut überlegen, ob du das wirklich machen willst.

Ich denke, es wäre fair zu sagen, dass die JMP-DOE-Leute keine Replikationsläufe empfehlen, daher könnte die Unfähigkeit, Replikate in Split-Plot-Designs in JMP hinzuzufügen oder zu verwenden, ein Spiegelbild davon sein. Replizierte Mittelpunkte sind Teil einer alten DOE-Methodik aus der Zeit bevor wir eine einfach zu bedienende Software hatten, als die Experimentanalyse von Hand durchgeführt wurde. In den meisten Experimenten sind Durchläufe teuer, so dass Replikationen verschwenderisch sind. Es ist besser, alle Durchläufe zu verwenden, um die verschiedenen Teile des Faktorraums zu erkunden. Das ist wirklich die Idee hinter Custom Design.

Wenn Sie immer noch der Meinung sind, dass Sie die Möglichkeit haben sollten, Replikate wegen mangelnder Anpassung in Split-Plot-Designs hinzuzufügen, können Sie Ihre Anfrage zu . hinzufügen die Wunschliste .

Ich hoffe, das ist hilfreich.

Phil

 

Betreff: Fehlende Passform für ein benutzerdefiniertes DoE-Design mit schwer zu ändernden Faktoren

Meine Gedanken zu einigen von Phils Ideen (mit denen ich im Allgemeinen einverstanden bin):

1. HTC-Faktoren sollten nicht als zufällige Effekte betrachtet werden (nicht sicher, woher dies kommt). Um einen formalen statistischen Test eines HTC zu erhalten, der im gesamten Plot (1 Faktor) enthalten ist, vergleichen Sie die Wirkung des WP-Faktors mit der WP-per-Replikat-Interaktion (dies ist EMS). Natürlich können Sie die praktische Signifikanz ohne einen formalen statistischen Test bestimmen.

2. Ich bin mir nicht sicher, warum Phil vorschlägt, dass Replikate gleich Mittelpunkten "(dh Mittelpunkte)" sind, aber vielleicht interpretiere ich ihn falsch.

3. Das Problem ist Folgendes: HTC-Faktoren werden wahrscheinlich nicht verwendet, um einen Prozess anzupassen. Wir wollen wissen, ob das HTC wichtig ist und vielleicht das "beste" Niveau ist, um es zu betreiben, aber den Prozess nicht mit ihnen verwalten. Daher ist es sinnvoll, sie einzuschränken. Tatsächlich könnten Sie das Rauschen im Experiment aufblasen (die Genauigkeit verringern), indem Sie das HTC mehrmals ändern und mehr Rauschen als normal einführen.

4. Statistisch gesehen ist die Effektivität von Designs mit mehreren HTCs begrenzt.

5. Replizierte Mittelpunkte, die zufällig über den Designraum laufen, sind eigentlich eine großartige Idee, um die Konsistenz des Rauschens zu verstehen oder spezielle Ursachen im Rauschen zu identifizieren. Es könnte eine realistische Schätzung des wahren MSE bieten. Ich bin mir nicht sicher, ob einige der "alten" Ideen nicht wirklich gut sind, aber ich glaube, ich bin alt.

6. Zur Analyse von Split-Plots bevorzuge ich Daniel/Box-Methoden. Das heißt, Normal-, Pareto-, Bayes-Plots jedes Plots zu erstellen. Dadurch wird sichergestellt, dass Sie den gesamten Plot mit dem mit dem WP verbundenen Rauschen und die Sub-Plot-Faktoren mit dem mit dem Sub-Plot verbundenen Rauschen vergleichen. Dies verhindert MSE-Bias und die Probleme, die durch mangelnde Eignungsentscheidungen entstehen.

 

 

Betreff: Fehlende Passform für ein benutzerdefiniertes DoE-Design mit schwer zu ändernden Faktoren

Ich behaupte nicht, dass Mittelpunkte mit Replikaten identisch sind. Ich bezog mich auf die Möglichkeit in JMP Custom Design, Mittelpunkte hinzuzufügen, um sicherzustellen, dass Sie Replikate haben. Diese Option ist nicht verfügbar, wenn Sie schwer zu ändernde Faktoren haben. Ich hoffe, das ist klar, wenn es nicht schon früher so war, und hilft Ihnen zu verstehen, wie Sie Ihre Ziele mit JMP erreichen können.