챔버 매칭에 대한 DoE에 대한 제안이 있습니까?안녕하세요,
챔버 매칭을위한 효과적인 DoE 설계에 대해 몇 가지 질문이 있습니다.
전체 인자 "A"와 "B"를 공유하는 4 개의 동일한 챔버가있는 반면, 인자 "C (n)"은 각 챔버에 적용될 수 있다고 가정합니다.
즉, "A"및 "B"요소가 한 번에 4 개의 모든 챔버에 적용됩니다.
모든 요인 A & B & C에 2 차 상호 작용이 있지만 지배적 인 추정치는 반응에 대한 각 요인의 주 효과에서 나온다고 가정합니다.
각 챔버 (= n)에 대해 "X (n)"및 "Y (n)"출력이 있지만 4 개의 챔버 모두에 대한 회귀선을 의미하는 잔차는 최소 = 챔버 일치 여야합니다.
반응 요인에 대한 회귀가 일반적으로 선형이라고 가정하면이 DoE를 어떻게 효율적으로 만들 수 있습니까?
해석학암사슴Re : 챔버 매칭에 대한 DoE에 대한 제안이 있습니까?알겠습니다. 상당히 복잡해 보이므로 몇 가지 확인하겠습니다.
- 각 실험 실행에 대해 X1, Y1, X2, Y2, X3, Y3, X4, Y4의 각 챔버에 대해 X 값과 Y 값을 얻습니다.
- 그리고 각 실행에 대해 X 대 Y를 플로팅하고 기본 선형 모델에 적합합니다.
- 그런 다음이 모델의 잔차를 살펴 봅니다.
- 잔차 = 0, 즉 RMSE = 0이면 챔버가 일치합니다.
모두 맞습니까?
잔차를 최소화하는 설정을 찾는 것이이 실험의 목적입니까?
또한 계수 C는 각 챔버에 대해 개별적으로 적용될 수 있다고 말합니다.
그렇다면 서로 완전히 독립적으로 설정할 수있는 4 가지 요소 (C1, C2, C3, C4)가 있다는 뜻입니까?
감사,
필
Re : 챔버 매칭에 대한 DoE에 대한 제안이 있습니까?안녕하세요, 도와 주셔서 감사합니다!
점선으로 된 모든 진술은 잘 확립되어 있고 정확합니다.
잔차를 최소화하는 설정을 찾는 것이이 실험의 목적입니까? - 예
그렇다면 서로 완전히 독립적으로 설정할 수있는 4 가지 요소 (C1, C2, C3, C4)가 있다는 뜻입니까? -네 서로 완전히 독립적입니다.
따라서 이것은 A & B가 글로벌 요인 인 동안 C1 / 2 / 3 / 4가 서로 상관되지 않는 까다로운 부분입니다.
C1 / 2 / 3 / 4는 잔차를 최소화하는 미세 조정 노브가 될 수있는 반면, A & B는 X & Y로 크게 이동합니다.
감사합니다!Re : 챔버 매칭에 대한 DoE에 대한 제안이 있습니까?안녕하세요 뿡뿡
DoE를 구축하기 위해이 문제를 해결하는 방법에 대해 생각할 필요가 있다고 언급 했으므로 내 메인 스레드에 답변 할 수 있습니까?
감사,
조엘
Re : 챔버 매칭에 대한 DoE에 대한 제안이 있습니까?더 빨리 답장을 드리지 못해 죄송합니다.
모든 요인이 독립적으로 변할 수 있는 경우 이 실험(첨부된 데이터 표)이 가능합니까?
여기서 -1은 요인의 가장 낮은 설정, 1은 가장 높은 설정, 0은 범위의 중심입니다.
이것은 최종 선별 설계입니다.
모든 실행을 수행할 수 있다면 Y 대 X의 RMSE를 결정하는 데 가장 영향력 있는 요인을 찾을 수 있습니다.
또한 인터넷에서 "실험 설계" 및 "챔버 매칭"을 검색하는 것이 좋습니다. 일부 있는 것 같다 이에 대한 출판된 기사 당신은 아마 나보다 더 잘 이해할 것입니다. (저는 반도체 업계에서 일한 적이 없습니다)
JMP Pro의 기능적 데이터 탐색기에 대해 생각해 볼 수도 있습니다. 이렇게 하면 설계된 실험의 요인으로 인해 기능적 응답이 어떻게 달라지는지 모델링할 수 있기 때문입니다. 요인 A, B 및 C1에서 C4에 따라 Y 대 X가 어떻게 변하는지 모델링할 수 있습니다.이 프라이머 도움이 될 수 있습니다.
이것이 도움이되는지 알려주십시오.
필
도움이 되는지 알려주세요.
