如何使用JMP計算批次間、晶圓間、晶圓內變異？我的問題是如何使用 JMP 計算批次間、晶圓間、晶圓內變異並量化均勻性？
例如，我有一張表，該表中有“lot”列，“wafer”列，“site”列，還包括一個數據列。
同一批次內有15 個晶圓，同一晶圓內有20 個站點，因此問題是如何使用JMP 計算和量化批次間、晶圓間、晶圓內的百分比或如何顯示哪個是主要貢獻者，做有公式嗎？
謝謝
大規模定制回复：如何使用JMP計算批次間、晶圓間、晶圓內變異？有兩種估計方差分量的方法。 假設您的抽樣計劃是嵌套的（分層的）並且可能如下所示：
您可以使用控製圖方法來分析數據。 這將從晶圓內層開始，使用範圍圖來確定晶圓內一致性（如果穩定且一致，則通過 Vww = (Rbar/d2)^2 估計方差），然後將晶圓內與其他組件進行比較使用Xbar 圖表進行研究（控制限制是晶圓內變異性的函數）...如果Xbar 失控，則通過總結晶圓內數據並創建新的“捲起樹”基於晶圓間變化等的子組。這將允許評估一致性和估計方差分量。
第二種方法是（按照建議）創建變異性圖表（您的分量必須設置為名義值）並讓 JMP 計算嵌套研究的方差分量。
回复：如何使用JMP計算批次間、晶圓間、晶圓內變異？我認為你可以使用變異圖，然後選擇“方差成分”
最終報告如下所示：
所以試試吧！
回复：如何使用JMP計算批次間、晶圓間、晶圓內變異？您可以分享您的表的子集嗎？
