如何使用JMP計算批次間，晶圓間，晶圓內變化？我的問題是如何使用JMP計算批次間，晶圓間，晶圓內變化並量化均勻性？
例如，我有一個表，此表中有列“ lot”，列“ wafer”，列“ site”，還包括一個數據列。
同一批次內有15個晶圓，同一晶圓內有20個位置，那麼問題是如何使用JMP計算批次間，晶圓間差異，晶圓內變化並量化均勻性？
謝謝
分析工具腳本編寫回复：如何使用JMP計算批次間，晶圓間，晶圓內偏差？您正在描述嵌套（或分層）採樣計劃。 採樣樹可能看起來像這樣：
如@P_Bartell建議，使用可變性圖表查看數據是一個很好的第一步。 我不確定您所說的“均勻性”是什麼意思？ 要了解一致性，可以使用範圍圖。 從採樣樹的底部（最小的有理子組）開始。 如果這是穩定的，則捲起樹並評估下一層的可變性。
如果要量化方差成分（不了解一致性），請確保數據類型是標稱值，在“分析”>“質量和過程”>“可變性/屬性量表”中，在“ Y”的“響應”框中輸入響應變量。 在“ X，分組”框中從上到下輸入樹。 選擇嵌套的模型類型。 這將產生一個變異圖。 選擇“可變量規”旁邊的紅色三角形，然後選擇“差異分量”。 這將為您提供方差分析和方差組件。
回复：如何使用JMP計算批次間，晶圓間，晶圓內偏差？您可能希望從簡單的東西開始，例如可變性圖表...，但是數據可能會有一些令人感興趣的空間特徵...好像晶圓質量評估/量化/可視化總是存在。
關於這個主題，有許多博客，JMP Discovery Summit演講，插件和其他資源...通過JMP用戶社區進行搜索應該會得到一些有用的資源。 我的前同事@MikeD_Anderson忘記了半導體數據可視化的知識比我所知道的還要多。 可能想搜索他的名字以找到他的貢獻嗎？
