如何使用JMP计算批次间，晶圆间，晶圆内变化？我的问题是如何使用JMP计算批次间，晶圆间，晶圆内变化并量化均匀性？
例如，我有一个表，此表中有列“ lot”，列“ wafer”，列“ site”，还包括一个数据列。
同一批次内有15个晶圆，同一晶圆内有20个位置，那么问题是如何使用JMP计算批次间，晶圆间差异，晶圆内变化并量化均匀性？
谢谢
分析工具脚本编写回复：如何使用JMP计算批次间，晶圆间，晶圆内偏差？您正在描述嵌套（或分层）采样计划。 采样树可能看起来像这样：
如@P_Bartell建议，使用可变性图表查看数据是一个很好的第一步。 我不确定您所说的“均匀性”是什么意思？ 要了解一致性，可以使用范围图。 从采样树的底部（最小的有理子组）开始。 如果这是稳定的，则卷起树并评估下一层的可变性。
如果要量化方差成分（不了解一致性），请确保数据类型是标称值，在“分析”>“质量和过程”>“可变性/属性量表”中，在“ Y”的“响应”框中输入响应变量。 在“ X，分组”框中从上到下输入树。 选择嵌套的模型类型。 这将产生一个变异图。 选择“可变量规”旁边的红色三角形，然后选择“差异分量”。 这将为您提供方差分析和方差组件。
回复：如何使用JMP计算批次间，晶圆间，晶圆内偏差？您可能希望从简单的东西开始，例如可变性图表...，但是数据可能会有一些令人感兴趣的空间特征...好像晶圆质量评估/量化/可视化总是存在。
关于此主题，有很多博客，JMP Discovery Summit演示，插件和其他资源...通过JMP用户社区进行搜索应该会产生一些有用的资源。 我的前同事@MikeD_Anderson忘记了半导体数据可视化的知识比我所知道的还要多。 可能想搜索他的名字以找到他的贡献吗？
