如何使用 JMP 建構以面為中心的中心複合材料設計嘿 JMP 用戶，
我需要建立一個包含 3 個因子的以面為中心的 CDD，每個因子有 3 個等級、2 個區塊和 4 個中心點。
我就是這樣進行的：
1) 選擇經典 > 響應曲面設計
2) 增加 3 個因素 > 繼續
3）在這裡我不知道是否應該選擇“中央複合設計”或“CDD-正交塊”，因為我需要添加一個具有2個級別的塊因子，但是CDD不允許我添加塊並且CDD-正交塊Blocks 給了我一個有3 個等級的區塊。
Q1: 我該如何進行？
Q2：如果我對自訂設計做同樣的事情，因為它允許我添加區塊，這意味著它不再是經典的 CDD 設計，對嗎？
提前致謝 ！
實驗設計回覆：如何使用 JMP 建構以面為中心的中心複合材料設計不確定您到底在問什麼，但第一個問題是，因為您選擇了 2 個膜：
1. 您選擇的 2 種膜在所有膜的代表性如何？
2. 您是否擔心因薄膜過濾效率而改變的因素所產生的影響？ 您可能會將其視為因子相互作用的膜。
3. 輸入材料的變化有多大？
4. 還有哪些噪音在塊之間發生變化，這會與膜混淆？ （例如，進料、環境條件、設定等）
以下是有關膜的一些其他問題：
1. 膜的用途是什麼？ 我假設它們是為了過濾一定大小的顆粒。
2. 如何測量/評估膜的「性能」？ 測量系統有能力嗎？ （您使用什麼測量系統？）
3. 多少錢之內膜變異性存在嗎？ 膜內孔徑的均勻程度如何？ 這種變化穩定嗎？
4. 多少錢之間膜變異性存在嗎？ 這種變化穩定嗎？
5. 輸入「材料」的顆粒尺寸變化有多大？ 這種變化是否一致？
問題 2-5 可以透過定向採樣來回答，或者您可以將這些組件層「嵌套」到您的實驗中（在治療中）。 我的建議通常是，在使用任何優化類型的設計（混合物、響應面、CC、BB、FCC 等）之前，應該了解噪音（例如，識別、量化和測試穩定性）。
阻止的目的是：
1. 將雜訊（實驗過程中未專門操縱的一大塊因素）與設計因素（您正在操縱的因素）分開，從而提高檢測設計因素影響的精確度，
2.增加推理空間（透過允許噪音在實驗過程中改變），有時
3. 允許估計雜訊與因子之間的交互作用（本質上是模型的穩健性）。
如果您可以先驗地識別雜訊（並將其指派給區塊），那麼將區塊視為固定效果具有一些優點。 如果你無法辨識它，那麼你就陷入了隨機化的境地。
一個很棒的 Box 引用（BH^2，第 102 頁+）：
“阻止你可以隨機化你不能的東西”
回覆：如何使用 JMP 建構以面為中心的中心複合材料設計請問可以開發一下嗎？對於膜，我在 18 個實驗中使用了兩種新膜。但我想知道由於能源部期間製程條件的可變性，將其添加為阻塞因子是否有意義，但運行是隨機的。回覆：如何使用 JMP 建構以面為中心的中心複合材料設計非常感謝您的回饋。 實際上我使用的是15.1.0。回覆：如何使用 JMP 建構以面為中心的中心複合材料設計丹給了一些很好的「統計」建議。 我的想法包括…當您仍然不了解雜訊時（過濾膜是雜訊變數之一），為什麼要進行最佳化設計？ 如果表面隨著雜訊不斷變化，那麼繪製表面圖就沒有太大用處。
回覆：如何使用 JMP 建構以面為中心的中心複合材料設計如果您確實想將膜視為一個塊而不是一個因素，那麼使用第三塊膜可以解決這個問題。 然而，請意識到您將膜視為一個固定塊，這意味著您的結論僅適用於這三個膜。 在我看來，將膜視為隨機塊會更好。 這意味著使用自訂設計並隨機調用它們，並且您可以估計由於不同膜而導致的變異數。 如果需要，您可以在專案的分析階段將膜從固定更改為隨機。
至於CCD的差異，有一些細微的差別。 首先，最大的差異在於中心點的數量。
第一個設計是具有 2 個中心點的 CCD。
第二種設計是具有 4 個中心點的 CCD，這是實現稱為「均勻精度」的數學特性所需的數量。 但是，只有使用可旋轉軸向距離才能實現均勻精度。 由於您的將以面為中心，因此您可以忽略統一精度標籤。
第三種設計有一個阻塞變量，因此它是一個阻塞設計。 這意味著塊將是正交的。 由於將有 3 個區塊，因此中心點的數量應該是 3 的倍數，以便它們可以均勻分佈在區塊中。
第四種設計有 9 個中心點。 如果您使用預設的可旋轉軸向距離，此設計將具有均勻精度且是正交的。 由於您沒有使用它，因此它實際上只有 9 個中心點。
最後，選擇所需的 CCD（假設為 2 個中心點設計）後，您可以選擇更改中心點的數量。 您應該能夠選擇任何您想要的數字，只要至少有一個。 如果執行此操作時 JMP 崩潰，您使用的是哪個版本的 JMP？ 如果是 15.2.1（最新），您應該將其報告給技術支援（ support@jmp.com ）。 如果您沒有使用最新版本，您可能應該升級到最新版本。
回覆：如何使用 JMP 建構以面為中心的中心複合材料設計非常感謝您的回答。
阻礙因素是膜，因為我正在考慮使用兩種不同的膜進行過濾。 這是否意味著如果我使用 3 層膜而不是 2 層，這個問題就會解決？
另一個問題：在建構CCD時，第一步需要選擇不同的類型，具有不同的中心點和阻擋（見下圖）。 我不明白4 CCD有什麼差別。
我試圖選擇具有 2 個中心點的中央複合設計，然後將“2”更改為“4”，然後 jmp 粉碎。 那麼中心點的數量是固定的，不能改變嗎？
先感謝您。
我
回覆：如何使用 JMP 建構以面為中心的中心複合材料設計當新增區塊變數時，該區塊將始終是正交區塊。 這是一件好事！ 對於您的情況，兩個區塊沒有正交設計。 您需要使用 3 個區塊。 對於三個塊，面心設計中的軸點將全部位於最後一個塊中。 設計創建過程中唯一可能的區塊是固定區塊。
客製化設計為您提供了更大的靈活性，但它可能與 CCD 不匹配。 有多種設計可以讓您估計響應面模型。 然而，這就是阻塞變數的性質很重要的地方。 什麼是阻塞變數？ 阻塞變數通常也被稱為「討厭」變量，這意味著它不是您希望研究的因素，但出於實際考慮，它必須改變。 因此，自訂設計器的設定方式是您指定每個區塊的運行次數而不是區塊的數量。 此外，自訂設計器可讓您指定固定的區塊變數（區塊變數的特定層級或所有可能的層級）或隨機區塊（層級是從較大的可能層級集中隨機選擇的）。
關於分塊和設計類型還有很多可以討論的內容，但最好還是留給實驗類的設計。
