JMP를 사용하여 면 중심 중심 합성 설계를 구축하는 방법안녕하세요, JMP 사용자 여러분,
각각 3개 수준, 2개 블록, 4개 중심점에 있는 3개 요인으로 얼굴 중심 CDD를 구축해야 합니다.
이것이 내가 진행한 방법입니다:
1) 클래식 > 반응 표면 디자인을 선택합니다.
2) 3가지 요소 추가 > 계속
3) 여기서는 2개 수준의 차단 요인 하나를 추가해야 하므로 "중앙 복합 설계" 또는 "CDD 직교 블록"을 선택해야 할지 모르겠습니다. 그러나 CDD에서는 블록 및 CDD 직교 블록을 추가하는 것을 허용하지 않습니다. 블록은 3레벨의 블록 하나를 제공합니다.
Q1: 어떻게 진행해야 합니까?
Q2: 블록을 추가할 수 있는 맞춤형 디자인으로 동일한 작업을 수행하면 더 이상 고전적인 CDD 디자인이 아니라는 의미입니까?
미리 감사드립니다!
실험 설계Re: JMP를 사용하여 면 중심 중심 합성 설계를 구축하는 방법정확히 무엇을 요구하시는지는 모르겠지만, 2개의 멤브레인을 선택하셨기 때문에 첫 번째 질문은 다음과 같습니다.
1. 귀하가 선택한 2가지 멤브레인이 모든 멤브레인을 얼마나 대표합니까?
2. 여과 시 막의 효율성에 따라 변화하는 요인의 영향에 대해 우려하고 계십니까? 이것을 요인 상호작용에 의한 막으로 생각할 수도 있습니다.
3. 입력 자료가 얼마나 바뀌나요?
4. 막과 혼동될 수 있는 블록 사이에서 어떤 다른 소음이 변화하고 있습니까? (예: 들어오는 재료, 환경 조건, 설정 등)
멤브레인에 관한 몇 가지 추가 질문은 다음과 같습니다.
1. 멤브레인의 용도는 무엇입니까? 나는 그것이 특정 크기의 입자를 필터링하기 위한 것이라고 가정할 것입니다.
2. 멤브레인 "성능"은 어떻게 측정/평가됩니까? 측정 시스템이 가능합니까? (어떤 측정 시스템을 사용하고 있나요?)
3. 얼마입니까? 이내에 막 가변성이 있습니까? 멤브레인 내 기공 크기는 얼마나 균일합니까? 이 변동성은 안정적인가요?
4. 얼마입니까? ~ 사이 막 가변성이 있습니까? 이 변동성은 안정적인가요?
5. 들어오는 "재료"의 입자 크기에는 얼마나 많은 변화가 있습니까? 이 변동성은 일관됩니까?
질문 2-5는 지정 샘플링을 통해 답변할 수 있거나 이러한 구성 요소의 레이어를 실험(처리 내에서)에 "중첩"할 수 있습니다. 내 조언은 일반적으로 모든 최적화 유형의 설계(혼합물, 반응 표면, CC, BB, FCC 등)를 사용하기 전에 소음을 이해해야 한다는 것입니다(예: 식별, 정량화 및 안정성 테스트).
차단의 목적은 다음과 같습니다.
1. 노이즈(실험 중에 특별히 조작되지 않은 요인 덩어리)를 설계 요인(조작하는 요인)으로 분할하여 설계 요인 효과 탐지의 정확도를 높입니다.
2. 추론 공간을 늘리십시오(실험 중에 노이즈가 변경되도록 허용하여). 때로는
3. 요인별 잡음 상호작용을 추정할 수 있습니다(기본적으로 모델의 견고성).
노이즈를 선험적으로 식별하고 이를 블록에 할당할 수 있는 경우 블록을 고정 효과로 처리하면 몇 가지 이점이 있습니다. 이를 식별할 수 없으면 무작위 배정에 갇히게 됩니다.
훌륭한 Box 인용문(BH^2, p.102+):
"무작위로 처리할 수 있는 것은 차단하세요."
Re: JMP를 사용하여 면 중심 중심 합성 설계를 구축하는 방법개발 부탁드려도 될까요? 멤브레인의 경우 18번의 실험에 두 개의 새로운 멤브레인을 사용하고 있습니다. 하지만 DoE 중 프로세스 조건의 가변성으로 인해 차단 요인으로 추가하는 것이 타당할지 궁금합니다. 그러나 실행은 무작위입니다.Re: JMP를 사용하여 면 중심 중심 합성 설계를 구축하는 방법피드백을 보내주셔서 감사합니다. 실제로 저는 15.1.0을 사용하고 있습니다.Re: JMP를 사용하여 면 중심 중심 합성 설계를 구축하는 방법Dan은 몇 가지 좋은 "통계적" 조언을 제공했습니다. 내 생각에는...아직 소음(소음 변수 중 하나인 여과막)을 이해하지 못하는데 왜 최적화 설계를 하고 있습니까? 표면이 노이즈로 인해 지속적으로 변하는 경우 표면을 매핑하는 것은 별로 좋지 않습니다.
Re: JMP를 사용하여 면 중심 중심 합성 설계를 구축하는 방법멤브레인을 요소가 아닌 블록으로 간주하고 싶다면 세 번째 멤브레인을 사용하면 문제가 해결될 것입니다. 그러나 막을 고정된 블록으로 취급하고 있다는 점을 인식하십시오. 즉, 결론은 이 세 가지 막에 대해서만 좋다는 의미입니다. 제 생각에는 막이 무작위 블록으로 취급되는 것이 더 좋을 것 같습니다. 이는 맞춤형 디자인을 사용하고 무작위로 호출하여 다양한 멤브레인으로 인한 차이를 추정하는 것을 의미합니다. 원하는 경우 프로젝트의 분석 단계에서 멤브레인을 고정에서 무작위로 변경할 수 있습니다.
CCD의 차이점은 약간의 차이가 있습니다. 첫째, 가장 큰 차이점은 중심점의 개수이다.
첫 번째 디자인은 2개의 중앙점이 있는 CCD입니다.
두 번째 디자인은 균일 정밀도(Uniform Precision)라는 수학적 속성을 달성하는 데 필요한 개수인 4개의 중심점을 갖춘 CCD입니다. 그러나 균일한 정밀도는 회전 가능한 축 거리를 사용하는 경우에만 달성됩니다. 귀하의 라벨은 면 중심이므로 균일 정밀도 라벨을 무시할 수 있습니다.
세 번째 디자인에는 차단 변수가 있으므로 차단된 디자인입니다. 이는 블록이 직교한다는 것을 의미합니다. 3개의 블록이 있으므로 중심점의 수는 블록 전체에 고르게 분포될 수 있도록 3의 배수여야 합니다.
네 번째 설계에는 중앙점이 9개 있습니다. 이 디자인은 기본 회전 가능 축 거리를 사용하는 경우 균일 정밀도를 가지며 직교합니다. 그것을 사용하지 않기 때문에 실제로는 단지 9개의 중심점입니다.
마지막으로 원하는 CCD를 선택한 후(2개의 중심점 설계 가정), 중심점 수를 변경할 수 있는 옵션이 있습니다. 최소한 하나의 숫자만 있으면 원하는 숫자를 선택할 수 있어야 합니다. 이 작업을 수행할 때 JMP가 충돌하는 경우 어떤 버전의 JMP를 사용하고 있습니까? 15.2.1(최신)인 경우 기술지원팀( support@jmp.com ). 최신 버전을 사용하지 않는 경우 최신 버전으로 업그레이드해야 할 수 있습니다.
Re: JMP를 사용하여 면 중심 중심 합성 설계를 구축하는 방법답변해 주셔서 감사합니다.
여과를 위해 2가지 다른 멤브레인을 사용하는 것을 고려하고 있기 때문에 차단 요인은 멤브레인입니다. 그러면 멤브레인을 2개가 아닌 3개 사용하면 이 문제가 해결된다는 뜻인가요?
또 다른 질문: CCD를 구축할 때 첫 번째 단계에서 선택할 수 있는 유형이 다르며 중심점과 차단도 다릅니다(아래 그림 참조). 4CCD의 차이점이 무엇인지 모르겠습니다.
나는 2개의 중심점이 있는 중앙 복합 디자인을 선택한 다음 "4"당 "2"를 변경하고 jmp가 크러시되도록 하려고 했습니다. 그렇다면 중심점의 수는 고정되어 있으며 변경할 수 없습니까?
미리 감사드립니다.
나
Re: JMP를 사용하여 면 중심 중심 합성 설계를 구축하는 방법차단 변수를 추가할 때 블록은 항상 직교 블록이 됩니다. 이것은 좋은 일입니다! 귀하의 상황에는 두 블록에 대한 직교 디자인이 없습니다. 3개의 블록을 사용해야 합니다. 세 개의 블록을 사용하면 면 중심 설계의 축 점이 모두 마지막 블록에 있게 됩니다. 디자인 생성 과정에서 가능한 유일한 차단은 고정 블록입니다.
맞춤형 디자인은 더 많은 유연성을 제공하지만 CCD와 일치하지 않을 가능성이 높습니다. 반응 표면 모델을 추정할 수 있는 여러 가지 설계가 있습니다. 그러나 여기서 차단 변수의 특성이 중요합니다. 차단 변수는 무엇입니까? 차단 변수는 종종 "불편한" 변수라고도 합니다. 즉, 연구하려는 요소는 아니지만 실제적인 문제로 인해 변경해야 한다는 의미입니다. 따라서 Custom Designer는 블록 수가 아닌 블록당 실행 수를 지정하는 방식으로 설정됩니다. 또한 사용자 정의 디자이너를 사용하면 고정 차단 변수(차단 변수의 특정 수준 또는 가능한 모든 수준) 또는 무작위 블록(수준은 더 큰 가능한 수준 집합에서 무작위로 선택됨)을 지정할 수 있습니다.
차단 및 설계 유형과 관련하여 논의할 수 있는 내용이 훨씬 더 많지만, 이는 실험 설계 수업에 맡기는 것이 좋습니다.
