JMP を使用して面中心の中央複合デザインを構築する方法JMPユーザーの皆さん、
それぞれ 3 つのレベル、2 つのブロック、4 つの中心点を持つ 3 つの要素を含む面中心 CDD を構築する必要があります。
これが私が進めた方法です:
1) [クラシック] > [応答曲面設計] を選択します。
2) 3 つの要素を追加 > 続行
3) ここでは、2 レベルのブロック係数を 1 つ追加する必要があるため、「中央複合計画」と「CDD 直交ブロック」のどちらを選択すべきかわかりませんが、CDD ではブロックと CDD 直交ブロックの追加が許可されていません。 Blocks は 3 つのレベルを持つ 1 つのブロックを提供します。
Q1 : どのように進めればよいですか？
Q2 : ブロックを追加できるカスタム デザインでも同じことを行うと、それは古典的な CDD デザインではなくなるということになりますよね?
前もって感謝します ！
実験計画法Re: JMP を使用して面中心の中央複合デザインを構築する方法何を質問しているのか正確にはわかりませんが、2 つの膜を選択しているため、最初の質問は次のとおりです。
1. あなたが選んだ 2 つは、すべての膜をどの程度代表していますか?
2. 濾過時の膜の有効性に基づいて変化する因子の影響を懸念していますか? これを因子による膜の相互作用と考えることもできます。
3. 投入材料はどの程度変化していますか?
4. メンブレンと混同される、ブロック間で変化する他のノイズは何ですか? (例: 入荷する材料、環境条件、セットアップなど)
メンブレンに関する追加の質問は次のとおりです。
1. 膜の目的は何ですか? 特定のサイズの粒子をフィルタリングすることを目的としていると思います。
2. 膜の「性能」はどのように測定/評価されますか? 測定システムは機能していますか? （どのような測定システムを使用していますか？）
3. いくら内で膜の変動はありますか？ 膜内の孔径はどの程度均一ですか? この変動は安定していますか?
4. いくら間膜の変動はありますか？ この変動は安定していますか?
5. 入ってくる「材料」の粒子サイズにはどの程度のばらつきがありますか? この変動は一貫していますか?
質問 2 ～ 5 は、指示されたサンプリングで回答することも、これらのコンポーネントの層を実験 (処理内) に「ネスト」することもできます。 私のアドバイスは、通常、最適化タイプの設計 (混合物、応答曲面、CC、BB、FCC など) を使用する前に、ノイズを理解する (特定、定量化、安定性のテストなど) 必要があるということです。
ブロックの目的は次のとおりです。
1. ノイズ (実験中に特に操作されなかった要素の塊) を設計要素 (操作している要素) から分割することで、設計要素の影響を検出する精度が向上します。
2. 推論空間を拡大します (実験中にノイズを変更できるようにすることで)。
3. ノイズと因子の相互作用 (本質的にはモデルの堅牢性) を推定できるようにします。
ノイズを事前に特定できる (そしてそれをブロックに割り当てることができる) 場合、ブロックを固定効果として扱うことにはいくつかの利点があります。 識別できない場合は、ランダム化が必要になります。
素晴らしいボックスの引用 (BH^2、p.102+):
「ランダム化できるものはブロックし、できないものはブロックする」
Re: JMP を使用して面中心の中央複合デザインを構築する方法開発していただけませんか？膜については、18 回の実験に 2 つの新しい膜を使用しています。しかし、DoE 中のプロセス条件は変動するため、それをブロック要因として追加するのが理にかなっているのかと疑問に思っていましたが、実行はランダム化されます。Re: JMP を使用して面中心の中央複合デザインを構築する方法フィードバックをお寄せいただきありがとうございます。 実際に私は15.1.0を使用しています。Re: JMP を使用して面中心の中央複合デザインを構築する方法ダンはいくつかの良い「統計的」アドバイスをくれました。 私の考えとしては、ノイズ (フィルタリング用の膜はノイズ変数の 1 つ) をまだ理解していないのに、なぜ最適化設計を行うのでしょうか? サーフェスがノイズによって継続的に変化している場合、サーフェスをマッピングしてもあまり意味がありません。
Re: JMP を使用して面中心の中央複合デザインを構築する方法本当にメンブレンを要素ではなくブロックとして考えたい場合は、3 番目のメンブレンを使用すると問題が解決します。 ただし、膜を固定ブロックとして扱っていること、つまり、結論がこれら 3 つの膜についてのみ適切であることを意味することに注意してください。 メンブレンはランダムなブロックとして扱った方が良いように思えます。 これは、カスタム設計を使用してそれらをランダムと呼び、異なる膜による分散を推定することを意味します。 必要に応じて、プロジェクトの分析フェーズでメンブレンを固定からランダムに変更できます。
CCDの違いですが、若干の違いがあります。 まず、最大の違いは中心点の数です。
最初の設計は、中心点が 2 つある CCD です。
2 番目の設計は、均一精度と呼ばれる数学的特性を達成するために必要な数である 4 つの中心点を持つ CCD です。 ただし、その均一な精度は、回転可能な軸方向の距離を使用した場合にのみ達成されます。 面の中心に配置されるため、Uniform Precision ラベルは無視してかまいません。
3 番目の設計にはブロッキング変数があるため、ブロックされた設計になります。 これは、ブロックが直交することを意味します。 ブロックが 3 つあるため、中心点がブロック全体に均等に分散されるように、中心点の数は 3 の倍数にする必要があります。
4 番目のデザインには 9 つの中心点があります。 デフォルトの回転可能な軸方向距離を使用する場合、この設計は均一な精度を持ち、かつ直交になります。 それを使用しないので、実際には 9 つの中心点だけになります。
最後に、目的の CCD (中心点 2 点設計を想定) を選択した後、中心点の数を変更するオプションがあります。 少なくとも 1 つあれば、任意の番号を選択できるはずです。 これを実行すると JMP がクラッシュする場合、使用している JMP のバージョンは何ですか? 15.2.1 (最新) の場合は、テクニカル サポートに報告する必要があります ( support@jmp.com ）。 最新バージョンを使用していない場合は、最新バージョンにアップグレードする必要があります。
Re: JMP を使用して面中心の中央複合デザインを構築する方法ご回答ありがとうございます。
濾過に 2 つの異なる膜の使用を検討しているため、ブロック要因は膜です。 ということは、膜を2枚ではなく3枚使えばこの問題は解決するということでしょうか？
別の質問: CCD を構築するとき、最初のステップで選択するさまざまなタイプがあり、中心点とブロックが異なります (下の図を参照)。 4CCDの違いが分かりません。
中心点が 2 つある中央複合デザインを選択し、「4」ごとに「2」を変更して jmp クラッシュしようとしていました。 ということは、中心点の数は固定されており、変更できないのでしょうか？
よろしくお願いします。
私
Re: JMP を使用して面中心の中央複合デザインを構築する方法ブロッキング変数を追加すると、ブロックは常に直交ブロックになります。 これは良いことです！ あなたの状況では、2 つのブロックの直交設計はありません。 3つのブロックを使用する必要があります。 3 つのブロックを使用すると、顔中心デザインの軸点はすべて最後のブロックに収まります。 デザイン作成プロセスで可能な唯一のブロックは固定ブロックです。
カスタム設計を使用すると柔軟性が高まりますが、CCD には適合しない可能性があります。 応答曲面モデルを推定できる設計は複数あります。 ただし、ここではブロッキング変数の性質が重要です。 ブロッキング変数とは何ですか? ブロッキング変数は「迷惑」変数とも呼ばれ、研究したい要素ではないが、現実的な懸念から変更する必要があることを意味します。 したがって、カスタム デザイナーは、ブロック数ではなくブロックごとの実行数を指定するように設定されています。 さらに、カスタム デザイナーを使用すると、固定ブロック変数 (ブロック変数の特定のレベルまたはすべての可能なレベル) またはランダム ブロック (レベルは、可能なレベルのより大きなセットからランダムに選択されたもの) を指定できます。
ブロッキングと計画の種類に関して議論できることはまだたくさんありますが、それは実験計画法のクラスに残しておく方がよいでしょう。
