如何使用 JMP 构建以面为中心的中心复合材料设计嘿 JMP 用户，
我需要建立一个包含 3 个因子的以面为中心的 CDD，每个因子有 3 个级别、2 个块和 4 个中心点。
我就是这样进行的：
1) 选择经典 > 响应曲面设计
2) 添加 3 个因素 > 继续
3）在这里我不知道是否应该选择“中央复合设计”或“CDD-正交块”，因为我需要添加一个具有2个级别的块因子，但是CDD不允许我添加块并且CDD-正交块Blocks 给了我一个有 3 个级别的块。
Q1: 我应该如何进行？
Q2：如果我对自定义设计做同样的事情，因为它允许我添加块，这意味着它不再是经典的 CDD 设计，对吗？
提前致谢 ！
实验设计回复：如何使用 JMP 构建以面为中心的中心复合材料设计不确定您到底在问什么，但第一个问题是，因为您选择了 2 个膜：
1. 您选择的 2 种膜在所有膜中的代表性如何？
2. 您是否担心因膜过滤效率而变化的因素所产生的影响？ 您可能会将其视为因子相互作用的膜。
3. 输入材料的变化有多大？
4. 还有哪些其他噪声在块之间发生变化，这会与膜混淆？ （例如，进料、环境条件、设置等）
以下是有关膜的一些其他问题：
1. 膜的用途是什么？ 我假设它们是为了过滤一定大小的颗粒。
2. 如何测量/评估膜的“性能”？ 测量系统有能力吗？ （您使用什么测量系统？）
3. 多少钱之内膜变异性存在吗？ 膜内孔径的均匀程度如何？ 这种变化稳定吗？
4. 多少钱之间膜变异性存在吗？ 这种变化稳定吗？
5. 输入“材料”的颗粒尺寸变化有多大？ 这种变化是否一致？
问题 2-5 可以通过定向采样来回答，或者您可以将这些组件层“嵌套”到您的实验中（在治疗中）。 我的建议通常是，在使用任何优化类型的设计（混合物、响应面、CC、BB、FCC 等）之前，应该了解噪声（例如，识别、量化和测试稳定性）。
阻止的目的是：
1. 将噪声（实验过程中未专门操纵的一大块因素）与设计因素（您正在操纵的因素）分开，从而提高检测设计因素影响的精度，
2.增加推理空间（通过允许噪声在实验过程中改变），有时
3. 允许估计噪声与因子之间的相互作用（本质上是模型的稳健性）。
如果您可以先验地识别噪声（并将其分配给块），那么将块视为固定效果具有一些优点。 如果你无法识别它，那么你就陷入了随机化的境地。
一个很棒的 Box 引用（BH^2，第 102 页+）：
“阻止你可以随机化你不能的东西”
回复：如何使用 JMP 构建以面为中心的中心复合材料设计请问可以开发一下吗？对于膜，我在 18 个实验中使用了两种新膜。但我想知道由于能源部期间工艺条件的可变性，将其添加为阻塞因子是否有意义，但运行是随机的。回复：如何使用 JMP 构建以面为中心的中心复合材料设计非常感谢您的反馈。 实际上我使用的是15.1.0。回复：如何使用 JMP 构建以面为中心的中心复合材料设计丹给出了一些很好的“统计”建议。 我的想法包括……当您仍然不了解噪声时（过滤膜是噪声变量之一），为什么要进行优化设计？ 如果表面随着噪声不断变化，那么绘制表面图就没有多大用处。
回复：如何使用 JMP 构建以面为中心的中心复合材料设计如果您确实想将膜视为一个块而不是一个因素，那么使用第三块膜可以解决这个问题。 然而，请意识到您将膜视为一个固定块，这意味着您的结论仅适用于这三个膜。 在我看来，将膜视为随机块会更好。 这意味着使用定制设计并随机调用它们，并且您可以估计由于不同膜而导致的方差。 如果需要，您可以在项目的分析阶段将膜从固定更改为随机。
至于CCD的差异，有一些细微的差别。 首先，最大的区别在于中心点的数量。
第一个设计是具有 2 个中心点的 CCD。
第二种设计是具有 4 个中心点的 CCD，这是实现称为“均匀精度”的数学特性所需的数量。 但是，只有使用可旋转轴向距离才能实现均匀精度。 由于您的将以面为中心，因此您可以忽略统一精度标签。
第三种设计有一个阻塞变量，因此它是一个阻塞设计。 这意味着块将是正交的。 由于将有 3 个块，因此中心点的数量应该是 3 的倍数，以便它们可以均匀分布在块中。
第四种设计有 9 个中心点。 如果您使用默认的可旋转轴向距离，此设计将具有均匀精度并且是正交的。 由于您没有使用它，因此它实际上只有 9 个中心点。
最后，选择所需的 CCD（假设为 2 中心点设计）后，您可以选择更改中心点的数量。 您应该能够选择任何您想要的数字，只要至少有一个即可。 如果执行此操作时 JMP 崩溃，您使用的是哪个版本的 JMP？ 如果是 15.2.1（最新），您应该将其报告给技术支持（ support@jmp.com ）。 如果您没有使用最新版本，您可能应该升级到最新版本。
回复：如何使用 JMP 构建以面为中心的中心复合材料设计非常感谢您的回答。
阻碍因素是膜，因为我正在考虑使用两种不同的膜进行过滤。 这是否意味着如果我使用 3 层膜而不是 2 层，这个问题就会得到解决？
另一个问题：在构建CCD时，第一步需要选择不同的类型，具有不同的中心点和阻挡（见下图）。 我不明白4 CCD有什么区别。
我试图选择具有 2 个中心点的中央复合设计，然后将“2”更改为“4”，然后 jmp 粉碎。 那么中心点的数量是固定的，不能改变吗？
先感谢您。
我
回复：如何使用 JMP 构建以面为中心的中心复合材料设计添加块变量时，该块将始终是正交块。 这是一件好事！ 对于您的情况，两个块没有正交设计。 您需要使用 3 个块。 对于三个块，面心设计中的轴点将全部位于最后一个块中。 设计创建过程中唯一可能的块是固定块。
定制设计为您提供了更大的灵活性，但它可能与 CCD 不匹配。 有多种设计可以让您估计响应面模型。 然而，这就是阻塞变量的性质很重要的地方。 什么是阻塞变量？ 阻塞变量通常也被称为“讨厌”变量，这意味着它不是您希望研究的因素，但出于实际考虑，它必须改变。 因此，自定义设计器的设置方式是您指定每个块的运行次数而不是块的数量。 此外，自定义设计器允许您指定固定的块变量（块变量的特定级别或所有可能的级别）或随机块（级别是从更大的可能级别集中随机选择的）。
关于分块和设计类型还有很多可以讨论的内容，但最好还是留给实验类的设计。
