了解测量系统分析原理,包括将量规 R&R 与 Don Wheeler 在《EMP III – 使用不完美数据》(2006 年) 书中描述的 EMP(评估测量过程)方法进行比较。 使用随附的数据来练习使用所提供的一些技术。定期更新的数据也可在以下位置找到: Goldensnowball.com。
请参阅如何:
- 量化测量系统变化及其对过程的影响
- 了解基本测量系统评估原则
- 了解量规研究的目的和类型
- 了解进行量规研究的注意事项:随机零件订单、一天中的时间、操作员机密性、遵循标准程序、监控但不干扰测试
- 执行连续测量研究
- 解释变异量规图表、量规 R&R 测量、量规 R&R 的方差分量
- 运行交叉测试
- 选择公差区间或规格(LSL 和 USL)
- 执行属性量表研究
- 使用EMP方法实现类间相关性视角对测量系统进行分类
- 了解过程筛选的目的:确定过程是否稳定、稳定和可预测,以便您可以使用它来监控未来的性能和/或评估变化对过程的影响
- 检查流程的声音:流程是否受控并表现出最小的差异?
- 检查客户的声音:流程是否生产出符合规格的优质/最佳零件?
- 使用控制图生成器检查过程能力
- 解释单个图和移动极差图、极限摘要、XBar 和 R 图、过程能力分析
- 了解 JMP 15 中引入的多变量控制图的目的:识别两个或多个相互关联的过程变量,其中相互关系可能会影响过程能力,尽管各个过程可能出现在控制中
资源
JMP Variability Gauge Study OptionsJMP Variability Gauge Study OptionsJMP 变异量规研究选项
JMP Variability Gauge Study ResultsJMP Variability Gauge Study ResultsJMP 变异量规研究结果
JMP Gauge Study ResultsJMP Gauge Study ResultsJMP 量规研究结果