使用JMP（R）進行大規模過程監控（2020-EU-TUT-315）級別：中級
勞拉·蘭開斯特（Laura Lancaster），SAS JMP首席研究統計學家開發人員
丁建峰，JMP高級統計研究員
在這個大數據和復雜製造的時代，通常需要監視和分析大量過程數據以保持或改善質量。JMP有多種工具可幫助分析師快速有效地增加他們的過程監控範圍。 Process Screening平台使用戶可以輕鬆地掃描過程的穩定性和功能，並使他們能夠將注意力集中在需要改進的過程上。該平台最初根據控製圖，功能和穩定性計算來計算摘要報告，並創建多個圖形以快速直觀地評估過程的運行狀況。根據這些初步結果，可以通過訪問“控製圖構建器”和“過程功能”輕鬆選擇需要注意的過程並更深入地探索它們。 JMP 15中新增的模型驅動多元控製圖（MDMCC）平台使用戶可以監視大量高度相關的過程。 該平台可以與PCA和PLS平台結合使用，以監視隨時間變化的多變量過程，對過程轉移給出高級警告，並建議過程變化的可能原因。 我們將通過案例研究來演示如何使用JMP監視和分析許多過程，以快速有效地進行改進。
數據探索質量與可靠性講解
