視覺晶圓到掩模坐標轉換器應用程序 (2019-US-30MP-182)級別：中級
John Como，英特爾公司工藝工程師
在半導體製造中，掩模用於在光刻工藝中將圖案壓印到晶圓上。 6" 掩模上的圖案尺寸比 12" 晶圓上印刷的圖案大 4 倍，因此多個芯片印在單個晶圓上。 掩模圖案上的單個缺陷可能導致重複出現壞芯片並使製造公司損失數百萬美元，因此發現和表徵掩模缺陷勢在必行。 通常，掩模檢測機使用與晶圓檢測機不同的坐標系，掩模上的直線距離比晶圓上的直線距離長 4 倍。 如果在掩模上發現缺陷，則必須進行從掩模坐標到晶圓坐標的繁瑣轉換，以驗證是否存在影響。 這個用 JSL 編寫的交互式應用程序可以輕鬆地將坐標從一個系統轉換到另一個系統，甚至可以創建掩模、晶圓和缺陷位置的圖像，以便與真實世界的數據進行輕鬆比較。 本演示文稿將涵蓋轉換背後的數學原理，並展示如何使用 JSL 創建應用程序來簡化計算。
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