JMP（R）質量和SPC的最新發展（2019-US-45MP-195）級別：中級
勞拉·蘭開斯特（Laura Lancaster），SAS JMP首席研究統計學家開發人員
丁建峰，SAS JMP高級研究統計學家開發人員
SAS JMP高級研究統計學家開發人員Annie Dudley Zangi
JMP具有幾個新的質量平台和功能-現代化的分銷，CUSUM控製圖和模型驅動的多元控製圖處理功能-使質量分析比以往更輕鬆，更有效。針對JMP 15的長期分發平台已更新，具有更現代且功能更豐富的過程功能報告，該報告現在與Process Capability and Control Chart Builder中的功能報告相匹配。 我們將演示如何使用集成的流程改進方法使Distribution中的新流程功能特性使功能分析變得更加容易。CUSUM控製圖平台旨在幫助用戶檢測其過程中隨時間變化的細微變化，例如漸進式漂移，而Shewhart圖表的效率可能較低。 我們將演示如何使用CUSUM Control Chart平台以及如何使用平均遊程長度來評估圖表性能。 JMP 15中的新模型驅動多變量控製圖（MDMCC）平台是為監視大量高度相關的過程變量的用戶設計的。 我們將演示如何將MDMCC與PCA和PLS平台結合使用，以監控隨時間變化的多變量過程，對過程變化給出高級警告，並提出過程變化的可能原因。
爆發質量與可靠性
