레벨 : 중급
John Como, 인텔사의 프로세스 엔지니어
반도체 제조에서, 마스크는 리소그래피 프로세스에서 웨이퍼 상에 패턴을 임프린트하는데 사용된다. 6 인치 마스크의 패턴 치수는 12 인치 웨이퍼에 인쇄 된 패턴보다 4 배 더 크기 때문에 여러 다이가 단일 웨이퍼에 인쇄됩니다. 마스크 패턴의 단일 결함은 반복되는 불량 다이를 유발할 수 있고 제조 회사에 수백만 달러의 비용을 초래할 수 있으므로 마스크 결함을 찾아서 특성화해야합니다. 종종, 마스크 검사 기계는 웨이퍼 검사 기계와 다른 좌표계를 사용하고, 마스크상의 선형 거리는 웨이퍼의 거리보다 4 배 더 길다. 마스크에서 결함이 발견되면 효과가 있는지 확인하기 위해 마스크에서 웨이퍼 좌표로의 지루한 변환이 수행되어야합니다. JSL로 작성된이 대화 형 응용 프로그램을 사용하면 좌표를 한 시스템에서 다른 시스템으로 쉽게 변환 할 수 있으며 실제 데이터와 쉽게 비교할 수 있도록 마스크, 웨이퍼 및 결함 위치의 이미지를 만들 수도 있습니다. 이 프리젠 테이션에서는 변환 뒤의 수학을 다루고 계산을 단순화하기 위해 JSL을 사용하여 애플리케이션을 작성하는 방법을 보여줍니다.
