视觉晶圆到掩模坐标转换器应用程序 (2019-US-30MP-182)级别：中级
John Como，英特尔公司工艺工程师
在半导体制造中，掩模用于在光刻工艺中将图案压印到晶圆上。 6" 掩模上的图案尺寸比 12" 晶圆上印刷的图案大 4 倍，因此多个芯片印在单个晶圆上。 掩模图案上的单个缺陷可能导致重复出现坏芯片并使制造公司损失数百万美元，因此发现和表征掩模缺陷势在必行。 通常，掩模检测机使用与晶圆检测机不同的坐标系，掩模上的直线距离比晶圆上的直线距离长 4 倍。 如果在掩模上发现缺陷，则必须进行从掩模坐标到晶圆坐标的繁琐转换，以验证是否存在影响。 这个用 JSL 编写的交互式应用程序可以轻松地将坐标从一个系统转换到另一个系统，甚至可以创建掩模、晶圆和缺陷位置的图像，以便与真实世界的数据进行轻松比较。 本演示文稿将涵盖转换背后的数学原理，并展示如何使用 JSL 创建应用程序来简化计算。
爆发数据可视化JSL 应用程序开发回复：视觉晶圆到掩模坐标转换器应用程序 (2019-US-30MP-182)
