Niveau: Mittelstufe
John Como, Prozessingenieur, Intel Corp.
In der Halbleiterfertigung werden Masken verwendet, um im Lithographieprozess Muster auf Wafer zu drucken. Die Musterabmessungen auf den 6-Zoll-Masken sind 4x größer als die auf den 12-Zoll-Wafern gedruckten Muster, sodass mehrere Chips auf einen einzelnen Wafer gedruckt werden. Ein einzelner Fehler auf dem Maskenmuster kann einen wiederholt schlechten Chip verursachen und das Herstellerunternehmen Millionen kosten, daher ist es unerlässlich, dass Maskenfehler gefunden und charakterisiert werden. Häufig verwenden die Maskeninspektionsmaschinen ein anderes Koordinatensystem als die Waferinspektionsmaschinen, und die linearen Abstände auf der Maske sind viermal länger als die Abstände auf den Wafern. Wenn auf der Maske ein Defekt gefunden wird, muss eine mühsame Umwandlung von Masken- in Waferkoordinaten durchgeführt werden, um zu verifizieren, ob es einen Effekt gibt. Diese in JSL geschriebene interaktive Anwendung macht es einfach, Koordinaten von einem System in ein anderes umzuwandeln, und erstellt sogar ein Bild der Maske, des Wafers und der Position des Defekts zum einfachen Vergleich mit realen Daten. Diese Präsentation behandelt die Mathematik hinter den Konvertierungen und zeigt, wie JSL verwendet wurde, um eine Anwendung zur Vereinfachung der Berechnung zu erstellen.
