用於掩蓋坐標轉換器應用的視覺晶圓（2019-US-30MP-182）等級：中級
英特爾公司工藝工程師John Como
在半導體製造中，掩模用於在光刻工藝中將圖案壓印到晶片上。6英寸掩模上的圖案尺寸比印刷在12英寸晶圓上的圖案大4倍，因此將多個模具印刷到單個晶圓上。掩模圖案上的單個缺陷可能導致重複的壞芯片並使製造公司損失數百萬美元，因此必須找到並表徵掩模缺陷。通常，掩模檢查機器使用與晶片檢查機器不同的坐標系統，並且掩模上的線性距離比晶片上的距離長4倍。如果在掩模上發現缺陷，則必須進行從掩模到晶片坐標的繁瑣轉換，以驗證是否存在影響。這個用JSL編寫的交互式應用程序使得將坐標從一個系統轉換為另一個系統變得簡單，甚至可以創建掩模，晶圓和缺陷位置的圖像，以便與真實數據進行比較。本演示將介紹轉換背後的數學，並展示如何使用JSL創建應用程序以簡化計算。
