如何在整个过程范围内执行嵌套量规 R&R你好，
我非常熟悉 JMP 中设计和执行交叉量规 RR 研究。 最近，我被要求进行一项嵌套研究，因为观察到的过程具有破坏性。 作为背景，我们正在尝试建立一个自动检测系统的有效性，该系统的任务是测量应用于一块塑料的纳升体积点的尺寸。 流体量如此之低，以至于必须在设定的时间内检查设备，否则会出现蒸发损失。 现在，我似乎遇到一些困难的关键问题是，我想在某些工艺极值处生成零件，以表明无论光斑尺寸如何，系统都能提供可重复和可再现的结果。 例如，我有发生以下情况的数据：
- 生成了 135 个设备。
- 该组设备分为 3 组，每组 45 个。 每组 45 个应由自动检测系统在 3 种不同照明条件（低、标称、高）下进行测量。
- 每组 45 个器件被分为 5 组，每组 9 个器件，其中每个器件处于工艺规格限制的不同点，即超出公差小尺寸、小尺寸、标称尺寸、大尺寸、超出公差大尺寸。
因此，当我在 JMP 中填充“Gauge RR”对话框时，我采用类似于交叉研究的方法，即响应 = 光斑大小、分组 = 照明条件、样本 ID = 规格限设置。 如果我这样做并执行嵌套模型分析，JMP 会报告可怕的精度与公差比，因为它似乎假设所有零件都应在相同的规格限制下收集。
我意识到，如果我采用交叉模型，我刚才描述的大部分内容仍然可以评估...... 但这似乎没有必要。 我想这个平台的一个典型用例是让几个操作员查看涵盖工艺范围的多个批次的一系列零件。 从根本上说，您是否可以只执行嵌套量规研究，假设所有零件都是同质的，无论批次如何？ 抱歉，如果这是一个更广泛的统计问题而不是 JMP 特定问题。
回复：如何在整个过程范围内执行嵌套量规 R&R在进行破坏性嵌套 MSA 设计时，您确实需要确保被视为同一部件（在部件/样本 ID 级别）的所有“部件”都是同质的。因此，如果我正确理解您的设计，则每个零件/样品 ID 似乎有 9 个零件。这 9 个部分必须是同质的。分析将它们视为同一部件，尽管破坏性测试不可能做到这一点。
您还需要确保 3 种照明条件具有一致的变化。这可以通过查看标准差图并使用方差齐性检验来评估。
此外，由于您要测量一系列尺寸，您可能还需要考虑进行线性研究，看看是否存在基于零件尺寸的测量偏差。
我希望这有帮助。
