棘手的裂區定制 DOE 問題，可能存在阻塞我正在使用 JMP 13 中的自定義 DOE 平台創建一個工業實驗。 我從兩個難以改變的因素和 4 個容易改變的因素開始。 設置起來很簡單。
我剛剛發現生產室存在可測量但不可控制的變化。 我可以通過添加一個因素（我們稱之為“x”）並賦予它“不受控制”的角色來處理。
複雜的是，如果將生產室分為四個像限，由於這一不受控制的因素，在給定象限中構建的單元比在不同象限中運行的單元更加同質。 這聽起來就像 JMP 13（或 JMP 14）實驗設計指南中所述的隨機區組設計。
根據指南，您應該選擇 '組運行到隨機大小的塊中' 選項並輸入您想要在每個塊中運行的次數。 然而，如果你像我一樣很難改變因素，那麼這個選項就不存在。
為什麼此選項在裂區設計案例中不可用？
更重要的是，我應該如何進行？ 我覺得添加“x”作為不受控制的變量可以讓我達到目標，但如果我正確地合併它，象限信息可能會改善分析。
我考慮添加“x”作為阻止因素，但我不確定這是否正確。 一方面，我選擇了所有 4 個像限，使其看起來像一個固定的塊效果。 另一方面，由於“x”不受控制，我想知道事情是否會隨著時間的推移而改變，使其更像是隨機樣本。
任何意見是極大的讚賞。
謝謝，
-拉里
回复：棘手的裂區定制 DOE 問題，可能會阻塞有道理，謝謝。
回复：棘手的裂區定制 DOE 問題，可能會阻塞否，因為分配給整個圖中每個像限塊的因子水平是隨機的。回复：棘手的裂區定制 DOE 問題，可能會阻塞我是否應該擔心像限編號不是隨機的？
回复：棘手的裂區定制 DOE 問題，可能會阻塞你好@LEP ,
在自定義設計平台中向裂區設計添加隨機塊有一個技巧。其想法是創建一個額外的虛擬因子，該因子的“難以更改”程度與其他裂區因子不同，然後從指定的模型項中刪除該因子的所有實例。結果是您仍然獲得該虛擬因子的隨機塊（這就是您真正想要的），然後可以刪除虛擬因子列。
如何將因素（包括虛擬因素）指定為“困難”或“非常困難”取決於嵌套順序。如果您想改變隨機塊內難以改變的因素，則將虛擬因素設置為“非常困難”，將其他因素設置為“困難”。否則，執行相反的操作。
在這種情況下，您實際上可能想要進行帶狀圖來獲得您想要的結構。為此，您需要將虛擬因素設置為“困難”，將真正難以更改的因素設置為“非常困難”，選中“難以更改的因素可以獨立於非常難以更改的因素而變化”框。為整個圖指定 4 的某個倍數，為子圖指定 4（這些將是您的“象限”隨機塊），然後為運行次數指定整個圖數量的某個倍數。我使用了 16 個完整圖、4 個子圖（僅在我選中該框後才有效）和 64 次運行。附上最終設計結果。
將“子圖”列重命名為“象限”並刪除虛擬因子列後，運行表如下所示。請注意，您在每個整圖中都獲得了所有 4 個像限。
