프로세스 범위에서 중첩 게이지 R & R을 수행하려면 어떻게해야합니까?여보세요,
JMP 내에서 교차 게이지 RR 연구를 설계하고 실행하는 데 익숙합니다. 최근 관측중인 프로세스가 파괴적이기 때문에 중첩 된 연구를 수행하라는 요청을 받았습니다. 배경으로, 우리는 플라스틱 조각에 적용된 나노 리터 볼륨 스팟의 크기를 측정하는 자동화 된 검사 시스템의 효율성을 입증하려고합니다. 유체의 양은 너무 적으므로 일정 시간 내에 장치를 검사해야합니다. 그렇지 않으면 증발 손실이 있습니다. 이제는 어떤 어려움을 겪고있는 것처럼 보이는 중요한 문제는 스팟 크기에 관계없이 시스템이 반복 가능하고 재현 가능한 결과를 제공한다는 것을 보여주기 위해 일부 프로세스 극한값에서 부품을 생성하고자한다는 것입니다. 예를 들어 다음과 같은 데이터가 있습니다.
- 생성 된 135 개의 장치.
- 장치 그룹은 45 개의 세 그룹으로 나뉘어졌습니다. 45 개의 각 그룹은 3 가지 조명 조건 (낮음, 공칭, 높음)으로 자동 검사 시스템에 의해 측정되어야합니다.
- 45의 각 그룹은 9 개의 장치로 구성된 5 개의 그룹으로 나뉘며, 각 장치는 프로세스 사양 한계 즉 허용 오차를 벗어난 작은 크기, 작은 크기, 공칭 크기, 큰 크기, 허용치 초과 큰 크기.
그래서 JMP에서 Gauge RR 대화 상자를 채울 때 나는 교차 된 연구와 비슷한 방법으로 작업을 수행합니다. 응답 = 스폿 크기, 그룹화 = 조명 조건, 샘플 ID = 사양 한계 설정. 이 작업을 수행하고 중첩 모델 분석을 실행하면 JMP는 공차 비율에 대한 끔찍한 정확도를보고합니다. 이는 모든 부품이 동일한 사양 한도에서 수집되어야한다는 가정을 겉으로 드러내 기 때문입니다.
내가 교차 모델을 사용한다면 방금 설명한 내용의 상당 부분이 여전히 평가 될 수 있다는 것을 알고 있습니다 ... 그러나 이것이 필요한 것처럼 보이지 않습니다. 이 플랫폼의 일반적인 사용 사례는 여러 운영자가 프로세스 범위를 다루는 여러 배치에서 일련의 부품을 살펴 보는 것이라고 생각합니다. 근본적으로 배치와 관계없이 모든 부품이 균질하다고 가정 할 경우에만 중첩 게이지 연구를 수행 할 수 있습니까? 이 질문이 JMP 관련 질문보다 광범위한 통계적 질문 일 경우 죄송합니다.
Re : 프로세스 범위에서 중첩 된 계량 R & R을 수행하려면 어떻게해야합니까?파괴적인 중첩 MSA 설계를 수행 할 때 파트 / 샘플 ID 수준에서 동일한 파트로 간주되는 모든 "파트"가 동질성인지 확인해야합니다. 따라서 설계를 올바르게 이해하고 있다면 각 부품 / 샘플 ID별로 9 가지 파트가있는 것 같습니다. 그 9 부분은 균질해야합니다. 비록 파괴적인 시험으로는 불가능하다고하더라도 분석은 동일한 부분 인 것처럼 취급합니다.
또한 3 가지 조명 조건에 대해 일관된 변형이 있는지 확인해야합니다. 표준 편차 차트를보고 균질성 차이 테스트를 사용하여 평가할 수 있습니다.
또한 크기 범위를 측정하고 있기 때문에 선형성 연구를 통해 부품의 크기에 따른 측정 편차가 있는지를 고려해야합니다.
이게 도움이 되길 바란다.
