如何在整個過程範圍內執行嵌套量規 R&R你好，
我非常熟悉 JMP 中設計和執行交叉量規 RR 研究。 最近，我被要求進行一項嵌套研究，因為觀察到的過程具有破壞性。 作為背景，我們正在嘗試建立一個自動檢測系統的有效性，該系統的任務是測量應用於一塊塑膠的納升體積點的尺寸。 流體量如此之低，以至於必須在設定的時間內檢查設備，否則會出現蒸發損失。 現在，我似乎遇到一些困難的關鍵問題是，我想在某些製程極值處產生零件，以顯示無論光點尺寸如何，系統都能提供可重複且可重現的結果。 例如，我有發生以下情況的數據：
- 產生了 135 個設備。
- 此組設備分為 3 組，每組 45 個。 每組 45 個應由自動偵測系統在 3 種不同照明條件（低、標稱、高）下進行測量。
- 每組 45 個裝置分為 5 組，每組 9 個裝置，其中每個裝置處於製程規格限制的不同點，即超出公差小尺寸、小尺寸、標稱尺寸、大尺寸、超出公差大尺寸。
因此，當我在 JMP 中填充“Gauge RR”對話框時，我採用類似於交叉研究的方法，即響應 = 光斑大小、分組 = 照明條件、樣本 ID = 規格限設定。 如果我這樣做並執行嵌套模型分析，JMP 會報告可怕的精度與公差比，因為它似乎假設所有零件都應在相同的規格限制下收集。
我意識到，如果我採用交叉模型，我剛才描述的大部分內容仍然可以評估... 但這似乎沒有必要。 我想這個平台的一個典型用例是讓幾個操作員查看涵蓋工藝範圍的多個批次的一系列零件。 從根本上說，您是否可以只執行嵌套量規研究，假設所有零件都是同質的，無論批次如何？ 抱歉，如果這是一個更廣泛的統計問題而不是 JMP 特定問題。
回覆：如何在整個流程範圍內執行嵌套量規 R&R在進行破壞性嵌套 MSA 設計時，您確實需要確保被視為相同部件（在部件/樣本 ID 層級）的所有「部件」都是同質的。因此，如果我正確理解您的設計，則每個零件/樣品 ID 似乎有 9 個零件。這 9 個部分必須是同質的。分析將它們視為同一部件，儘管破壞性測試不可能做到這一點。
您還需要確保 3 種照明條件具有一致的變化。這可以透過查看標準差圖並使用方差齊性檢定來評估。
此外，由於您要測量一系列尺寸，您可能還需要考慮進行線性研究，看看是否有基於零件尺寸的測量偏差。
我希望這有幫助。
