반응 표면 설계 - 중앙 복합 설계<meta http-equiv="Content-Type" content="text/html; charset=UTF-8" />안녕하세요,
5가지 요인에 대한 반응 표면 설계를 구축하려고 합니다. CCD-Faced를 사용하려고 했는데 옵션에서 선택할 수 있는 디자인이 의문스럽습니다. 요인 수를 소개하고 설계를 선택해야 할 때 실행 수가 다른 "중앙 복합 설계"에 대한 두 가지 옵션이 있습니다.
1) 실행 횟수: 28, 블록 크기: -, 중심점: 2.
2) 실행 횟수: 44, 블록 크기: -, 중심점: 2.
(첨부된 이미지 참조)
중앙 복합 설계에 대한 이 두 가지 옵션의 차이점을 아는 사람이 있습니까?
미리 감사드립니다
문안 인사,
Re: 반응 표면 설계 - 중앙 복합 설계의견을 보내주셔서 감사합니다. 나는 CCD가 완벽한 아이디어가 아닐 수도 있다는 것을 이해합니다. 하지만 t는 어떻습니까? 범주형 변수를 블록으로 연결합니다. 2개의 연속형 변수를 사용하여 13번의 실험을 수행한 다음 범주형 요인의 두 가지 수준으로 인해 이 13번의 실험이 두 배가 됩니다. 26회까지는 문제가 없습니다. 분석하는 동안 각 범주형 변수를 나타내는 두 개의 서로 다른 방정식을 얻게 됩니다.
귀하의 아이디어에 감사드립니다.
Re: 반응 표면 설계 - 중앙 복합 설계귀하의 설명을 해석하면 두 개의 연속 요인에 대해 26개의 실행이 있는 CCD와 두 가지 수준이 있는 하나의 범주형 요인이 있습니다. 나는 이 디자인을 모른다.
범주형 요인의 각 수준에 대해 개별적으로 반응을 모형화하려고 합니다. 상호작용 효과가 있는 단일 모델을 사용하지 않는 이유는 무엇입니까?
이 경우 CCD를 사용하면 안 됩니다. 모든 기존 RSM 설계와 마찬가지로 연속 요인에만 사용됩니다. 게다가 같은 사이즈의 I-옵티멀 커스텀 디자인만큼 효율적이지 않은 대형 디자인입니다. CCD의 크기는 설계 방법(구성), 전체 2차 모델의 매개변수 수 및 선택한 속성(직교, 회전 가능)에 따라 결정됩니다. 요인 유형의 모든 조합, 모델 항의 조합 및 I-최적성을 맞춤 설계합니다. 실행 횟수는 필요하다고 생각하는 대로 결정됩니다.
Re: 반응 표면 설계 - 중앙 복합 설계안녕하세요 루브님,
저는 세 가지 요인, 즉 연속 요인 2개와 범주형 요인 1개(2개 수준)를 사용하여 중심 복합 설계 최적화를 수행할 예정입니다. 비슷한 디자인을 가진 출판된 연구가 있는지 궁금합니다. Minitab에서는 26점을 제공하고 있습니다. 응답 최적화 방정식은 각각 범주형 변수의 2개 수준과 관련된 두 개의 하위 방정식으로 제공됩니다. 이와 같이:
카테고리 Var.
높은 PDI = ..............
낮은 PDI = ..............
데이터를 보고하는 방법이나 올바른 방향으로 가고 있는지 잘 모르겠습니다. 유사한 기사가 저나 귀하 및 다른 친구들의 데이터 보고 방법에 대한 아이디어에 큰 도움이 될 수 있습니다.
Re: 반응 표면 설계 - 중앙 합성 설계괜찮아요. 도움이 되셨다니 기쁘네요
루 5세
Re: 반응 표면 설계 - 중앙 복합 설계LouV의 답변에 감사드립니다. 매우 도움이 되었습니다.
Re: 반응 표면 설계 - 중앙 복합 설계디자인 공간 플롯의 비율
디자인 공간의 비율 플롯은 모델 예측 분산이 주어진 값보다 높거나 낮을 정도를 보여줍니다. 보다 디자인 공간 플롯의 비율 . 이는 여러 요인이 있을 때 가장 유용합니다. 이는 예측 분산을 요약하여 모든 요인을 함께 고려한 부분 설계 공간을 보여줍니다.
디자인 공간 플롯의 비율
Re: 반응 표면 설계 - 중앙 복합 설계ajanda에 대한 응답의 그래프를 해석할 수 있습니까?감사해요.
Re: 반응 표면 설계 - 중앙 복합 설계우리는 모든 기능을 사용할 수 있도록 노력하고 있습니다. 나는 맞춤형 디자이너가 실험자에게 제약 조건, 다중 수준 범주형 요인, 혼합 요인, 이산 수치 및 연속 요인을 포함한 모든 유형의 설계 문제를 처리할 수 있는 가장 유연성을 제공한다는 데 동의합니다. 우리는 문제를 규정된 디자인에 맞추는 것보다 주어진 문제에 올바른 디자인을 맞추는 것이 바람직한 접근 방식이라고 생각합니다. 사람들이 고전적인 DOE 접근 방식의 교육에 많은 투자를 했으며 새로운 설계 방법이 익숙하지 않은 경우가 있다고 말했습니다. 게다가 소위 "복잡한 앨리어싱에 대한 두려움"도 그들의 망설임을 가중시킵니다. 또 다른 의견은 "우리는 수년 동안 이런 방식으로 디자인을 해왔습니다"이며 그들은 우리를 위해 좋은 성능을 발휘해 왔기 때문에 "깨지지 않았다면 고치지 마십시오"입니다. 제 생각에는 이것이 채택에 대한 몇 가지 장벽입니다. 질문의 일부는 아니었지만 맞춤 디자이너를 사용하여 제공되는 디자인이 내 응답에 포함된 이유는 리소스가 한정되어 있고 실행 횟수가 많은 실험을 선택하고 싶다면 실험에 앞서 모든 옵션을 조사할 것임을 제안하기 위한 것이었습니다. 관련된 비용은 DOE의 설정 단계가 아닌 실험 측면에서 크게 가중됩니다.
Re: 반응 표면 설계 - 중앙 복합 설계JMP의 맞춤 설계 기능을 사용하지 않으려는 이유가 있나요? 나는 이러한 오래된 "클래식" 디자인을 사용하는 것의 이점을 볼 수 없으며 뭔가 빠진 것이 있는지 궁금합니다.
몇 년 전 최종 스크리닝 디자인(DSD)이 발명될 때까지 저는 작업에 거의 항상 맞춤형 디자인 기능(때로는 기본적으로 클래식 디자인이 사용됨)을 사용했습니다. 이제 나는 많은 탐구 작업을 위해 DSD를 사용하고 세부 사항을 연마하기 위한 d-최적 및 i-최적 디자인을 구축하기 위한 맞춤형 디자인을 사용합니다. JMP는 이러한 오래된 설계를 모두 제공하지만 맞춤형 설계를 사용하는 이유와 DSD가 기본적으로 모든 경우에 기존 설계를 폐기하지 않는 이유를 이해할 수 없었습니다.
나는 이 점에 관해 다른 생각을 듣고 싶습니다.
Re: 반응 표면 설계 - 중앙 복합 설계설계 표에서 찾은 두 설계의 차이점은 처음 28개 런 설계가 실제로 해 V, 16런 부분 계승, 2X5 = 10, 축 점 및 2개의 중앙점(총 28개)이라는 것입니다. 달린다. 44개 런 설계는 전체 요인 32개 런 설계에 2X5 = 10개의 축 점과 2개의 중앙점을 추가하여 총 44개의 런이 됩니다.
디자인 공간 플롯의 일부가 아래에 표시되어 28런 CCD(빨간색), 44런 CCD(녹색), 44런용 Custom Designer를 사용하여 생성된 RSM 디자인(파란색)의 차이를 보여줍니다.
