<meta http-equiv="Content-Type" content="text/html; charset=UTF-8" />In passato, ULIS ha dovuto affrontare una grave crisi che ha influito sulla funzionalità dei prodotti di grandi dimensioni. L'applicazione JMP ® è stato utilizzato con successo durante i 3 passaggi principali della risoluzione di crisi, utilizzando la metodologia 8D:
- - Descrizione del problema:
- È stato utilizzato un calcolo dell'intervallo di confidenza per confrontare i tassi di fallimento per prodotto.
- La "piattaforma di potenza" è stata utilizzata per determinare se il difetto era originariamente presente o se era causato da una deriva del processo.
- Wafermaps personalizzati sono stati creati nella "Graph builder platform" per individuare il difetto sui wafer di silicio. L'interfaccia user-friendly dei grafici è stata anche utile per creare cronogrammi delle cronologie dei processi batch e per determinare quando il problema è apparso.
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- - Analisi delle cause principali e azione correttiva permanente:
- Usando JMP ® la "piattaforma di distribuzione" del custom designer e la creazione di esperimenti di superficie di screening e di risposta, è stata rilevata una variazione della velocità del gas per effettuare il tasso di fallimento.
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- Convalida dell'efficienza dell'azione correttiva permanente:
- La "piattaforma di potenza" è stata utilizzata per determinare la dimensione minima del campione obbligatoria per convalidare l'efficienza dell'azione correttiva con un ragionevole livello di confidenza (potenza = 80%).
Finalmente, JMP ® ha contribuito in maniera determinante al successo di questa risoluzione della crisi.
